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深纳米工艺代三维FinFET栅围寄生效应及模型研究

摘要第6-8页
Abstract第8-9页
第一章 绪论第12-19页
    1.1 研究背景第12-14页
    1.2 国内外发展动态分析第14-16页
    1.3 选题意义与研究内容第16-19页
第二章 三维FinFET器件核心模型及基本特性第19-33页
    2.1 深纳米三维FinFET器件核心模型第19-24页
    2.2 TCAD模拟仿真技术第24-25页
    2.3 深纳米三维FinFET器件基本特性第25-32页
    2.4 本章小结第32-33页
第三章 三维FinFET器件寄生电阻提取与建模第33-43页
    3.1 基本沟道电流法提取寄生电阻第33-34页
    3.2 考虑迁移率偏压相关因素的提取方法第34-35页
    3.3 源漏寄生不对称电阻提取方法第35-36页
    3.4 偏压相关的源漏寄生电阻分离方法第36-38页
    3.5 凸起源漏区域的寄生电阻第38-39页
    3.6 过渡区寄生电阻模型第39-41页
    3.7 源漏扩展区寄生电阻模型第41-42页
    3.8 本章小结第42-43页
第四章 深纳米工艺代三维FinFET器件中寄生电容建模第43-60页
    4.1 栅围寄生电容划分策略第43-45页
    4.2 基本垂直电容模型第45-50页
    4.3 寄生电容模型验证第50-56页
    4.4 包含栅围寄生电容的基本电路仿真和分析第56-58页
    4.5 本章小结第58-60页
第五章 总结与展望第60-62页
    5.1 总结第60-61页
    5.2 展望第61-62页
参考文献第62-65页
硕士在读期间科研成果第65-66页
致谢第66页

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