| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-27页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·半导体光催化基本原理 | 第10-12页 |
| ·光催化技术的应用 | 第12-14页 |
| ·水中污染物的降解 | 第12-13页 |
| ·大气污染物的降解 | 第13页 |
| ·水解制氢 | 第13-14页 |
| ·光催化的杀菌与消毒 | 第14页 |
| ·太阳能的转化 | 第14页 |
| ·光催化剂研究现状及其活性提高的主要途径 | 第14-19页 |
| ·离子掺杂 | 第16-17页 |
| ·贵金属沉积 | 第17页 |
| ·光敏化 | 第17-18页 |
| ·半导体复合 | 第18页 |
| ·表面衍生及螯合作用 | 第18-19页 |
| ·表面还原处理 | 第19页 |
| ·纳米薄膜材料的制备方法 | 第19-25页 |
| ·真空蒸发法 | 第20页 |
| ·分子束外延法 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射法 | 第21-23页 |
| ·化学气相沉积法 | 第23-24页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第24页 |
| ·电化学沉积法 | 第24-25页 |
| ·化学镀法 | 第25页 |
| ·本课题的研究目的及意义 | 第25-27页 |
| 2 实验准备部分 | 第27-34页 |
| ·实验仪器 | 第27页 |
| ·实验试剂与材料 | 第27-28页 |
| ·光催化剂表征方法 | 第28-30页 |
| ·X 射线衍射法(XRD) | 第28-29页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第29页 |
| ·紫外-可见分光光度法 | 第29-30页 |
| ·DFT 简介 | 第30页 |
| ·样品制备 | 第30-31页 |
| ·Ti0_2 薄膜的制备 | 第30-31页 |
| ·Cu_20 薄膜的制备 | 第31页 |
| ·Cu_20/Ti0_2 复合薄膜的制备 | 第31页 |
| ·光催化测试与表征 | 第31-34页 |
| ·光催化性能测试 | 第31-32页 |
| ·光催化降解率的计算 | 第32-34页 |
| 3 Cu_20 薄膜的表征及其光催化活性 | 第34-41页 |
| ·前言 | 第34页 |
| ·Cu_20 薄膜的表征 | 第34-38页 |
| ·Cu_20 薄膜的XRD 和EDS 表征 | 第34-35页 |
| ·不同溅射时间Cu_20 薄膜的XRD 表征 | 第35-36页 |
| ·不同溅射时间Cu_20 薄膜的SEM 分析 | 第36-37页 |
| ·不同溅射时间Cu_20 薄膜的紫外-可见吸收光谱 | 第37-38页 |
| ·Cu_20 不同晶面对0_2吸附分析 | 第38-39页 |
| ·不同溅射时间Cu_20 薄膜的光催化活性 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 4 Cu_20/Ti0_2复合薄膜的表征及其光催化活性 | 第41-48页 |
| ·前言 | 第41页 |
| ·Ti0_2 的表征 | 第41-43页 |
| ·Ti0_2 的XRD 分析 | 第41-42页 |
| ·Ti0_2 的紫外可见透射光谱分析 | 第42-43页 |
| ·Cu_20/Ti0_2 复合薄膜的表征 | 第43-44页 |
| ·各种Cu_20/Ti0_2薄膜的光催化活性 | 第44-45页 |
| ·通入气体对MB 光催化作用的影响 | 第45-46页 |
| ·初始pH 值对MB 光催化作用的影响 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 5 结论 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-56页 |
| 附录 研究生期间发表的论文 | 第56页 |