| 中文摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-18页 |
| 1.1 微电子——信息社会的基石 | 第12-14页 |
| 1.2 硅基光电集成 | 第14-16页 |
| 1.3 本论文的结构 | 第16-18页 |
| 第二章 文献综述 | 第18-46页 |
| 2.1 硅的光学性质 | 第18-19页 |
| 2.2 硅基光源研究进展 | 第19-38页 |
| 2.2.1 多孔硅发光 | 第19-21页 |
| 2.2.2 硅基薄膜发光的研究 | 第21-35页 |
| 2.2.3 硅中缺陷发光及硅基PN结发光 | 第35-36页 |
| 2.2.4 应变锗发光 | 第36页 |
| 2.2.5 硅基Ⅲ-Ⅴ族杂化光源 | 第36-38页 |
| 2.2.6 稀土离子掺杂发光 | 第38页 |
| 2.3 铒掺杂硅基发光体系 | 第38-43页 |
| 2.3.1 体硅中掺铒 | 第39-40页 |
| 2.3.2 富硅氧化硅/氮化硅掺铒 | 第40-42页 |
| 2.3.3 硅酸铒 | 第42-43页 |
| 2.4 富硅氮氧化硅及其铒掺杂薄膜的发光 | 第43-45页 |
| 2.5 掺铒富硅氮氧化硅体系存在的问题总结 | 第45-46页 |
| 第三章 样品制备与表征 | 第46-50页 |
| 3.1 材料制备设备 | 第46-47页 |
| 3.1.1 磁控溅射 | 第46-47页 |
| 3.1.2 热处理设备 | 第47页 |
| 3.2 材料表征方法 | 第47-50页 |
| 3.2.1 卢瑟福背散射 | 第48页 |
| 3.2.2 椭偏光谱 | 第48页 |
| 3.2.3 稳态-瞬态荧光光谱 | 第48页 |
| 3.2.4 透射电镜 | 第48页 |
| 3.2.5 紫外-可见吸收光谱 | 第48-49页 |
| 3.2.6 电流-电压特性 | 第49-50页 |
| 第四章 薄膜富硅量对硅纳米晶敏化铒发光的影响 | 第50-72页 |
| 4.1 引言 | 第50-51页 |
| 4.2实验 | 第51页 |
| 4.2.1 Er：SRON薄膜的制备 | 第51页 |
| 4.2.2 Er：SRON薄膜的表征 | 第51页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第51-70页 |
| 4.3.1 Er：SRON薄膜的成分分析 | 第51-53页 |
| 4.3.2 Er：SRON薄膜的椭偏光谱分析 | 第53-54页 |
| 4.3.3 Er：SRON薄膜的荧光光谱分析 | 第54-59页 |
| 4.3.4 富硅量对硅纳米晶敏化铒离子发光的影响 | 第59-70页 |
| 4.4 本章小结 | 第70-72页 |
| 第五章 热处理条件对薄膜结构及铒敏化机理的影响 | 第72-88页 |
| 5.1 引言 | 第72-73页 |
| 5.2 实验 | 第73页 |
| 5.2.1 Er：SRON薄膜的制备 | 第73页 |
| 5.2.2 Er：SRON薄膜的表征 | 第73页 |
| 5.3 实验结果与讨论 | 第73-86页 |
| 5.3.1 薄膜成分的卢瑟福背散射(RBS)分析 | 第73-75页 |
| 5.3.2 薄膜的椭偏光谱分析与吸收光谱分析 | 第75-77页 |
| 5.3.3 薄膜基体的荧光光谱分析 | 第77-78页 |
| 5.3.4 热处理条件对薄膜结构的影响 | 第78-80页 |
| 5.3.5 热处理温度对铒离子发光的影响 | 第80-84页 |
| 5.3.6 常规热处理与快速热处理对铒离子发光影响的对比 | 第84-86页 |
| 5.4 本章小结 | 第86-88页 |
| 第六章 铒敏化发光中激发与退激发过程的变温PL研究 | 第88-100页 |
| 6.1 引言 | 第88页 |
| 6.2 实验 | 第88-89页 |
| 6.2.1 样品制备 | 第88页 |
| 6.2.2 样品的表征 | 第88-89页 |
| 6.3 实验结果与讨论 | 第89-97页 |
| 6.3.1 基体发光的变温研究 | 第89-91页 |
| 6.3.2 铒离子发光的变温研究 | 第91-97页 |
| 6.4 本章小结 | 第97-100页 |
| 第七章 掺铒富硅氮氧化硅的电致发光 | 第100-114页 |
| 7.1 引言 | 第100页 |
| 7.2 实验 | 第100-101页 |
| 7.2.1 器件制备 | 第100-101页 |
| 7.2.2 分析与表征 | 第101页 |
| 7.3 实验结果与讨论 | 第101-111页 |
| 7.3.1 薄膜的椭偏光谱测试 | 第101-102页 |
| 7.3.2 薄膜的透射电镜分析 | 第102-103页 |
| 7.3.3 薄膜的电学输运特性 | 第103-110页 |
| 7.3.4 器件的电致发光研究 | 第110-111页 |
| 7.4 本章小结 | 第111-114页 |
| 第八章 结论与展望 | 第114-116页 |
| 8.1 结论 | 第114-115页 |
| 8.2 展望 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-134页 |
| 致谢 | 第134-136页 |
| 个人简历 | 第136-138页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第138页 |