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BNTM铁电栅石墨烯场效应晶体管的制备及性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第10-30页
    1.1 铁电体和铁电薄膜第10-15页
        1.1.1 铁电体第10-13页
        1.1.2 铁电薄膜第13-15页
    1.2 铁电薄膜存储器概述第15-23页
        1.2.1 非易失性存储器第15-16页
        1.2.2 铁电场薄膜储器的基本结构第16-17页
        1.2.3 铁电薄膜存储器的工作原理第17-21页
        1.2.4 铁电场效应晶体管存储器的应用前景第21-23页
    1.3 石墨烯概述第23-25页
        1.3.1 石墨烯的发现第23-24页
        1.3.2 石墨烯的结构和基本特性第24-25页
    1.4 石墨烯场效应晶体管(G-FET)的研究第25-29页
        1.4.1 石墨烯场效应晶体管(G-FET)的器件结构第25-26页
        1.4.2 石墨烯场效应晶体管(G-FET)的工作原理第26-27页
        1.4.3 石墨烯场效应晶体管(G-FET)的研究现状第27-29页
    1.5 本论文的选题依据和主要内容第29-30页
第2章 薄膜材料的制备与表征方法第30-39页
    2.1 薄膜材料的制备方法第30-34页
        2.1.1 脉冲激光沉积(PLD)法第30-31页
        2.1.2 磁控溅射(magnetron sputtering)法第31-32页
        2.1.3 金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法第32-33页
        2.1.4 溶胶-凝胶(Sol-Gel)法第33-34页
    2.2 微观结构表征方法第34-36页
        2.2.1 X射线衍射第34-35页
        2.2.2 扫描电子显微镜第35-36页
    2.3 电学性能表征方法第36-38页
        2.3.1 铁电分析仪第36页
        2.3.2 半导体参数分析仪第36-37页
        2.3.3 振动样品磁强计第37-38页
    2.4 本章小结第38-39页
第3章 BNTM铁电薄膜的制备与性能表征第39-50页
    3.1 引言第39页
    3.2 Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_(2.99)Mn_(0.01)O_(12)铁电薄膜的制备第39-45页
        3.2.1 实验所需药品及设备第39-40页
        3.2.2 前驱体溶液配制第40-42页
        3.2.3 匀胶与热处理第42-45页
    3.3 BNTM铁电薄膜的性能表征第45-49页
        3.3.1 BNTM铁电薄膜的微观结构表征第45-46页
        3.3.2 BNTM铁电薄膜的电学性能表征第46-49页
    3.4 本章小结第49-50页
第4章 石墨烯的制备与性能表征第50-58页
    4.1 引言第50页
    4.2 石墨烯的制备第50-53页
        4.2.1 实验方法与设备第50-52页
        4.2.2 机械剥离法制备少层石墨烯第52页
        4.2.3 化学气相沉淀(CVD)法制备单层石墨烯第52-53页
    4.3 石墨烯的表征第53-57页
        4.3.1 石墨烯的光学显微表征第54页
        4.3.2 石墨烯的SEM表征第54-55页
        4.3.3 石墨烯的Raman表征第55-56页
        4.3.4 石墨烯的UV-Vis透过率表征第56-57页
    4.4 本章小结第57-58页
第5章 铁电栅石墨烯场效应晶体管(G-FET)的制备与性能表征第58-67页
    5.1 引言第58页
    5.2 铁电栅G-FET的制备第58-62页
        5.2.1 铁电栅G-FET的工艺流程图第58-60页
        5.2.2 石墨烯的转移方法第60-61页
        5.2.3 光刻工艺实现电极图形化第61-62页
        5.2.4 电极的制备第62页
    5.3 铁电栅G-FET的性能测试第62-66页
        5.3.1 铁电栅G-FET的Ids-Vds曲线第63页
        5.3.2 铁电栅 G-FET 的转移特性第63-65页
        5.3.3 铁电栅 G-FET 的输出特性第65-66页
    5.4 本章小结第66-67页
第6章 总结与展望第67-69页
    6.1 论文总结第67-68页
    6.2 研究进展第68-69页
参考文献第69-76页
致谢第76-77页
个人简历第77-78页
在学期间发表的学术论文与研究成果第78页

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