| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 1. 绪论 | 第10-16页 |
| ·薄膜晶体管的发展现状 | 第10-11页 |
| ·薄膜晶体管工作原理及分类 | 第11-13页 |
| ·有结薄膜晶体管 | 第11-12页 |
| ·无结薄膜晶体管 | 第12-13页 |
| ·薄膜晶体管面临的问题 | 第13-14页 |
| ·本文研究内容及意义 | 第14-16页 |
| 2. 薄膜的制备方法及原理 | 第16-21页 |
| ·Al_2O_3薄膜的制备技术 | 第16-19页 |
| ·化学方法 | 第16-17页 |
| ·物理方法 | 第17-19页 |
| ·Al_2O_3薄膜的制备 | 第19-21页 |
| ·实验材料 | 第19页 |
| ·实验设备 | 第19-20页 |
| ·样品制备 | 第20-21页 |
| 3. 薄膜表征方法 | 第21-24页 |
| ·薄膜厚度 | 第21页 |
| ·薄膜光学性能 | 第21-22页 |
| ·薄膜结构和形貌 | 第22-24页 |
| 4. 工艺参数对 Al_2O_3薄膜性能的影响 | 第24-51页 |
| ·氧气通入量对薄膜性能的影响 | 第24-31页 |
| ·氧气通入量对薄膜沉积速率的影响 | 第24-25页 |
| ·氧气通入量对薄膜结构及形貌的影响 | 第25-28页 |
| ·氧气通入量对薄膜光学性能的影响 | 第28-31页 |
| ·溅射功率对 Al_2O_3薄膜性能的影响 | 第31-38页 |
| ·溅射功率对 Al_2O_3薄膜沉积速率的影响 | 第32-33页 |
| ·溅射功率对 Al_2O_3薄膜结构及形貌的影响 | 第33-35页 |
| ·溅射功率对 Al_2O_3薄膜光学性能的影响 | 第35-38页 |
| ·溅射时间对 Al_2O_3薄膜性能的影响 | 第38-46页 |
| ·溅射时间对 Al_2O_3薄膜沉积速率的影响 | 第38-40页 |
| ·溅射时间对 Al_2O_3薄膜结构及形貌的影响 | 第40-43页 |
| ·溅射时间对 Al_2O_3薄膜光学性能的影响 | 第43-46页 |
| ·柔性基底镀制 Al_2O_3薄膜 | 第46-51页 |
| ·柔性基底 | 第46-47页 |
| ·实验条件 | 第47-49页 |
| ·Al_2O_3薄膜厚度和沉积速率 | 第49页 |
| ·Al_2O_3薄膜光学性能 | 第49-51页 |
| 5. 非晶 Al_2O_3薄膜与 SnO_2:F 薄膜的抗菌性 | 第51-61页 |
| ·实验方案 | 第51-52页 |
| ·实验材料 | 第51页 |
| ·菌种制备 | 第51-52页 |
| ·薄膜抗菌性检测 | 第52页 |
| ·非晶 Al_2O_3薄膜的抗菌性 | 第52-57页 |
| ·四种氧化物薄膜的结构与光学性能 | 第52-54页 |
| ·薄膜抗菌性分析 | 第54-56页 |
| ·不同菌种的薄膜抗菌性 | 第56-57页 |
| ·SnO_2:F 薄膜抗菌性 | 第57-61页 |
| ·SnO_2:F 的结构和光学性能 | 第58-59页 |
| ·SnO_2:F 抗菌性 | 第59-61页 |
| 6. 结论 | 第61-63页 |
| ·结论 | 第61页 |
| ·问题与展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 作者简介 | 第68-69页 |