| 1 综述 | 第1-15页 |
| 1．1 高亮度的X射线光源 | 第6-8页 |
| 1．1．1 同步辐射光源 | 第7页 |
| 1．1．2 x射线激光 | 第7-8页 |
| 1．1．3 激光等离子体光源 | 第8页 |
| 1．2 X射线光学元件 | 第8-12页 |
| 1．2．1 x射线反射镜 | 第9-10页 |
| 1．2．2 x射线波带片 | 第10-11页 |
| 1．2．3 x射线玻璃毛细管 | 第11-12页 |
| 1．3 X射线光学开辟应用新领域 | 第12-13页 |
| 1．4 软X射线多层膜的发展与研究现状 | 第13-15页 |
| 2 软X射线多层膜的设计及性能分析 | 第15-32页 |
| 2．1 软经X射线区的光学常数 | 第15-16页 |
| 2．2 多层膜材料选择的一般原则 | 第16-17页 |
| 2．3 多层膜膜系的基本结构 | 第17-19页 |
| 2．4 多层膜设计的基本理论 | 第19-21页 |
| 2．5 多层膜设计的一些结果 | 第21-29页 |
| 2．6 多层膜的性能分析 | 第29-32页 |
| 2．6．1 多层膜周期厚度误差对多层膜性能的影响 | 第29-30页 |
| 2．6．2 多层膜层与层之间的界面渗透对多层膜性能的影响 | 第30-31页 |
| 2．6．3 薄膜的粗糙度对多层膜性能的影响 | 第31-32页 |
| 3 软X射线多层膜反射镜的研制 | 第32-57页 |
| 3．1 沉积工艺的建立 | 第32-35页 |
| 3．1．1 平面磁控溅射装置的转速控厚法 | 第32-35页 |
| 3．1．2 离子束溅射 | 第35页 |
| 3．2 多层膜结构的测试分析 | 第35-39页 |
| 3．3 多层膜的性能测试 | 第39-42页 |
| 3．4 几种反射膜的研制 | 第42-47页 |
| 3．4．1 13．9nmMo/Si多层膜反射镜的研制 | 第42-44页 |
| 3．4．2 13．1nm、45°入射Mo/Si多层膜反射镜的研制 | 第44-45页 |
| 3．4．3 短波长多层膜反射镜的研制 | 第45-47页 |
| 3．5 表面粗糙度对实际多层膜光学特性的影响 | 第47-52页 |
| 3．6 MO/SI多层膜的时效实验研究 | 第52-57页 |
| 4 软X射线多层膜分光元件的研制 | 第57-66页 |
| 4．1 分束镜的制备工艺 | 第58-60页 |
| 4．2 分束镜的设计与制备 | 第60-61页 |
| 4．3 分束镜的性能测试 | 第61-66页 |
| 4．3．1 小角x射线衍射方法测试 | 第61-63页 |
| 4．3．2 同步辐射方法测试 | 第63-66页 |
| 5 总结 | 第66-68页 |
| 6 参考文献 | 第68-72页 |
