| 作者简介 | 第1-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| ·纳米结构 | 第12页 |
| ·有序纳米结构的制备 | 第12-15页 |
| ·离子束刻蚀技术研究进展 | 第15-26页 |
| ·国外研究现状 | 第15-23页 |
| ·国内研究现状 | 第23-26页 |
| ·本文的研究内容及作者的主要工作 | 第26-29页 |
| ·本文主要工作 | 第26页 |
| ·解决的关键问题及课题创新 | 第26页 |
| ·本文内容的结构安排 | 第26-29页 |
| 第二章 低能离子束刻蚀理论模型与仿真分析 | 第29-56页 |
| ·几种离子束刻蚀理论模型 | 第29-31页 |
| ·Edwards-Wilkinson(EW)模型 | 第29-30页 |
| ·Kardar-Parisi-Zhang(KPZ)模型 | 第30页 |
| ·Kuramoto-Sivashinsky（KS）模型 | 第30-31页 |
| ·基于 SIGMUND 理论的波纹形成模型 | 第31-37页 |
| ·Sigmund 溅射原理 | 第31-33页 |
| ·表面扩散和沉积现象 | 第33-34页 |
| ·波纹形成的 Bradley and Harper 理论 | 第34-35页 |
| ·MCB 模型 | 第35-37页 |
| ·MCB 生长方程的线性理论分析 | 第37-48页 |
| ·高温时波纹形成：对称情况 | 第38-44页 |
| ·高温下的纹波形成：不对称情况 | 第44-46页 |
| ·低温下的纹波形成：对称情况 | 第46-48页 |
| ·低温下的波纹形成：非对称情况 | 第48页 |
| ·非线性理论 | 第48-54页 |
| ·高温形态：对称情况 | 第48-51页 |
| ·高温形态:非对称情况 | 第51-52页 |
| ·低温形态：对称情况 | 第52-53页 |
| ·低温形态：非对称情况 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-56页 |
| 第三章 自组织纳米结构制备与特性表征 | 第56-66页 |
| ·自组织纳米结构制备 | 第56-59页 |
| ·工艺研究方案 | 第56页 |
| ·工艺实验技术路线 | 第56-58页 |
| ·离子束刻蚀平台 | 第58-59页 |
| ·自组织纳米结构特性表征 | 第59-62页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第59-61页 |
| ·非接触表面轮廓检测仪 | 第61-62页 |
| ·傅立叶红外光谱仪 | 第62页 |
| ·数据分析与处理 | 第62-65页 |
| ·傅立叶频谱分析 | 第62-64页 |
| ·功率谱密度(PSD) | 第64-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 第四章 低能离子束刻蚀单晶硅实验及结果分析 | 第66-84页 |
| ·样品的制备 | 第66页 |
| ·不同离子束角度参数实验结果与分析 | 第66-75页 |
| ·样品不旋转时不同离子束角度下刻蚀结果 | 第66-71页 |
| ·样品旋转时不同离子束角度下刻蚀结果 | 第71-75页 |
| ·离子束流参数实验结果与分析 | 第75-77页 |
| ·离子束入射能量实验结果与分析 | 第77-79页 |
| ·离子束刻蚀时间实验结果与分析 | 第79页 |
| ·分析讨论 | 第79-83页 |
| ·扩散机理 | 第79-81页 |
| ·样品旋转斜入射模型的改进 | 第81-82页 |
| ·等效折射率理论 | 第82-83页 |
| ·小结 | 第83-84页 |
| 第五章 蓝宝石自组织纳米结构的制备与表征 | 第84-100页 |
| ·样品制备 | 第84-85页 |
| ·不同离子束参数的研究与结果分析 | 第85-94页 |
| ·离子束入射角度实验结果 | 第85-90页 |
| ·离子束入射能量实验结果 | 第90-94页 |
| ·离子束刻蚀时间实验结果 | 第94页 |
| ·纳米结构的光学性能 | 第94-95页 |
| ·分析讨论 | 第95-98页 |
| ·小结 | 第98-100页 |
| 第六章 结论 | 第100-104页 |
| 致谢 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-114页 |
| 攻读博士学位期间的研究成果 | 第114-116页 |
| 学术论文 | 第114页 |
| 参加研究的科研项目 | 第114-116页 |
