| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 图目录 | 第11-13页 |
| 表目录 | 第13-14页 |
| 1 绪论 | 第14-24页 |
| ·光谱仪技术简介 | 第14页 |
| ·光谱仪的微型化研究方向 | 第14-15页 |
| ·MOEMS 技术简介 | 第15-16页 |
| ·微型光谱仪的研究现状 | 第16-21页 |
| ·国外研究现状 | 第16-19页 |
| ·国内研究现状 | 第19-21页 |
| ·论文的主要研究工作 | 第21-23页 |
| ·论文的内容安排 | 第23-24页 |
| 2 变栅距光栅的衍射原理 | 第24-30页 |
| ·透射光栅光谱仪的工作原理 | 第24-26页 |
| ·变栅距光栅的简介 | 第26页 |
| ·变栅距光栅的原理 | 第26-27页 |
| ·变栅距光栅的设计方法 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-30页 |
| 3 变栅距光栅透镜的消像差优化设计 | 第30-46页 |
| ·变栅距光栅透镜的设计模型 | 第30-32页 |
| ·坐标系统与模型 | 第30-31页 |
| ·简化设计模型与符号约定 | 第31-32页 |
| ·像差评价函数的推导 | 第32-34页 |
| ·光程级数展开 | 第34-36页 |
| ·变栅距光栅的 MATLAB 消像差设计 | 第36-39页 |
| ·程序流程 | 第36-37页 |
| ·单波长与多波长的优化设计算例 | 第37-39页 |
| ·变栅距光栅透镜的 ZEMAX 仿真 | 第39-45页 |
| ·仿真模型 | 第39-40页 |
| ·确定光谱分辨率的方法 | 第40页 |
| ·单波长的优化仿真分析 | 第40-42页 |
| ·多波长的优化仿真分析 | 第42-44页 |
| ·两种优化设计的简单对比 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 4 微透镜的热熔法制作工艺 | 第46-56页 |
| ·光刻胶热熔法概述 | 第46-47页 |
| ·热熔法的透镜制作工艺原理 | 第46页 |
| ·热熔工艺的研究与发展 | 第46-47页 |
| ·微透镜的热熔制作工艺 | 第47-48页 |
| ·透镜热熔效果的影响因素分析 | 第48-54页 |
| ·基本实验条件 | 第48页 |
| ·单层胶与双层胶的效果比较 | 第48-50页 |
| ·显影程度对透镜面形的影响 | 第50-52页 |
| ·透镜热熔的接触角 | 第50-51页 |
| ·完全显影与非完全显影的热熔效果对比 | 第51-52页 |
| ·透镜口径与热熔曲面轮廓之间的关系 | 第52-54页 |
| ·透镜制作工艺参数汇总 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 5 变栅距光栅的光刻制作工艺探索 | 第56-62页 |
| ·电子束光刻工艺 | 第56-57页 |
| ·概述 | 第56页 |
| ·光栅制作的适用性与限制 | 第56-57页 |
| ·紫外光刻工艺 | 第57-60页 |
| ·可行性讨论 | 第57-58页 |
| ·光栅试制样本 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 6 总结与展望 | 第62-64页 |
| ·论文工作总结 | 第62-63页 |
| ·未来工作展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 附录 1：消像差优化设计的仿真结果分辨率数据 | 第68-69页 |
| 附录 2：针对多波长的消像差优化设计 MATLAB 代码 | 第69-76页 |
| 作者简介与攻读学位期间发表的研究成果 | 第76页 |