| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·半导体光催化基本原理 | 第11-12页 |
| ·可见光响应光催化剂研究进展 | 第12-17页 |
| ·宽禁带半导体的改性研究进展 | 第12-14页 |
| ·离子掺杂 | 第12-13页 |
| ·表面光敏化 | 第13页 |
| ·半导体复合 | 第13-14页 |
| ·新型可见光催化剂的研究进展 | 第14-17页 |
| ·简单窄带光催化剂 | 第14页 |
| ·钙钛矿型复合氧化物 | 第14-15页 |
| ·钨锰矿型光催化剂 | 第15页 |
| ·铋系光催化剂 | 第15-17页 |
| ·提高半导体光催化性能的方法 | 第17-20页 |
| ·半导体表面贵金属沉积 | 第18页 |
| ·复合半导体 | 第18-19页 |
| ·半导体的金属离子掺杂 | 第19-20页 |
| ·半导体的表面还原处理 | 第20页 |
| ·表面鳌合及衍生作用 | 第20页 |
| ·本课题研究依据和研究目的及意义 | 第20-22页 |
| ·本课题研究依据 | 第20-21页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第21页 |
| ·研究目的 | 第21页 |
| ·研究意义 | 第21页 |
| ·本课题研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 BiVO_4的制备、表征及可见光光催化性能 | 第22-40页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第22-23页 |
| ·实验试剂 | 第22页 |
| ·实验仪器 | 第22-23页 |
| ·实验方法 | 第23-28页 |
| ·光催化剂的制备 | 第23页 |
| ·样品的表征 | 第23-24页 |
| ·光催化实验 | 第24-28页 |
| ·实验装置 | 第24-25页 |
| ·罗丹明 B 特征吸收波长及标准曲线确定 | 第25-27页 |
| ·吸附实验 | 第27页 |
| ·光催化降解罗丹明 B | 第27页 |
| ·光催化降解率的计算 | 第27-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-39页 |
| ·不同制备条件对 BiVO_4性能的影响 | 第28-37页 |
| ·水热温度对合成 BiVO_4的影响 | 第28-31页 |
| ·水热时间对合成 BiVO_4的影响 | 第31-32页 |
| ·前驱液的 pH 值对合成 BiVO_4影响 | 第32-36页 |
| ·最佳制备条件合成 BiVO_4的表征 | 第36-37页 |
| ·BiVO_4可见光光催化降解罗丹明 B | 第37-39页 |
| ·罗丹明 B 初始浓度的影响 | 第37-38页 |
| ·不同投加量的影响 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 异质结 Bi_2WO_6/BiVO_4复合催化剂的制备、表征及可见光光催化性能 | 第40-54页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第40-41页 |
| ·实验试剂 | 第40页 |
| ·实验仪器 | 第40-41页 |
| ·实验方法 | 第41-42页 |
| ·样品的制备 | 第41页 |
| ·样品的表征 | 第41-42页 |
| ·吸附实验 | 第42页 |
| ·光催化降解罗丹明 B | 第42页 |
| ·光催化降解率的计算 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-50页 |
| ·Bi_2WO_6/BiVO_4复合光催化剂的表征 | 第42-45页 |
| ·Bi_2WO_6/BiVO_4复合光催化剂的 XRD 分析 | 第42-43页 |
| ·Bi_2WO_6/BiVO_4复合光催化剂的 DRS 分析 | 第43-44页 |
| ·Bi_2WO_6/BiVO_4复合光催化剂的 SPV 分析 | 第44-45页 |
| ·Bi_2WO_6/BiVO_4复合催化剂光催化降解罗丹明 B | 第45-49页 |
| ·不同担载量对 Bi_2WO_6/BiVO_4光催化性能的影响 | 第45-46页 |
| ·不同初始浓度对 Bi_2WO_6/BiVO_4光催化性能的影响 | 第46-47页 |
| ·不同投加量对 Bi_2WO_6/BiVO_4光催化性能的影响 | 第47-49页 |
| ·Bi_2WO_6/BiVO_4复合催化剂的光催化反应的动力学分析 | 第49-50页 |
| ·异质结 Bi_2WO_6/BiVO_4光催化机理的探讨 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 结论与展望 | 第54-56页 |
| ·结论 | 第54页 |
| ·展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
