基于软印制工艺有机聚合物电光调制器的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·背景 | 第10-11页 |
| ·聚合物电光调制器的研究现状和进展 | 第11-14页 |
| ·纳米压印光刻技术的研究进展 | 第14-15页 |
| ·本论文主要研究内容及结构安排 | 第15-16页 |
| 第二章 聚合物电光调制器的基本理论与纳米压印技术 | 第16-36页 |
| ·有机聚合物材料特性及体系结构 | 第16-22页 |
| ·有机聚合物材料 | 第16-17页 |
| ·生色团的设计与合成 | 第17-18页 |
| ·聚合物体系结构 | 第18-20页 |
| ·聚合物的电光效应 | 第20-22页 |
| ·电光调制器聚合物薄膜的极化 | 第22-25页 |
| ·纳米压印技术 | 第25-28页 |
| ·纳米压印的分类 | 第25-26页 |
| ·热纳米压印（HE-NIL） | 第26页 |
| ·紫外固化纳米压印（UV-NIL） | 第26-27页 |
| ·软压印（SIL） | 第27-28页 |
| ·导模的本征方程与单模传输条件 | 第28-32页 |
| ·矩形波导与脊型波导的有效折射率法 | 第32-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 聚合物电光调制器的优化与压印方案设计 | 第36-51页 |
| ·M-Z 型聚合物电光调制器的波导结构设计 | 第36-41页 |
| ·矩形波导结构的设计 | 第36-40页 |
| ·脊形波导结构 | 第40-41页 |
| ·简单反射法测量电光系数 | 第41-44页 |
| ·压印方案设计 | 第44-50页 |
| ·模板材料的选取与制作方案 | 第44-46页 |
| ·软模板厚度分析设计 | 第46-48页 |
| ·压印过程与图形转移层厚度分析 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 聚合物调制器及软压印工艺的研究 | 第51-69页 |
| ·材料的选择 | 第51-52页 |
| ·光学光刻技术 | 第52-53页 |
| ·M-Z 电光调制器的制备 | 第53-59页 |
| ·软压印制备聚合物光波导工艺的研究 | 第59-68页 |
| ·压印母板的制作 | 第59-62页 |
| ·压印软模板的制作 | 第62-64页 |
| ·光波导压印过程 | 第64-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 总结与展望 | 第69-71页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第69页 |
| ·本文主要成果 | 第69-70页 |
| ·下一步工作的展望 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第76-77页 |
