铝掺杂氧化锌多晶薄膜及其应用于薄膜晶体管的制备与研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10-13页 |
| ·薄膜晶体管(TFT)的简介 | 第13-18页 |
| ·硒化镉薄膜晶体管 | 第14-15页 |
| ·氢化非晶硅薄膜晶体管(a-Si：H TFT) | 第15-16页 |
| ·多晶硅薄膜晶体管(poly-Si：H TFT) | 第16-17页 |
| ·有机薄膜晶体管(OTFT) | 第17页 |
| ·金属氧化物薄膜晶体管(MO-TFT) | 第17-18页 |
| ·薄膜晶体管基本工作原理 | 第18-19页 |
| ·本文工作的主要内容 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-24页 |
| 第二章 Al掺杂ZnO薄膜的制备与表征 | 第24-50页 |
| ·引言 | 第24-25页 |
| ·电子束蒸发制备ZnO和AZO薄膜 | 第25-27页 |
| ·电子束蒸发 | 第25-26页 |
| ·氧化锌陶瓷靶材的制备 | 第26-27页 |
| ·氧化锌薄膜的制备 | 第27页 |
| ·ZnO薄膜的性质 | 第27-38页 |
| ·ZnO薄膜的结构特性 | 第27-30页 |
| ·ZnO薄膜的光学特性 | 第30-37页 |
| ·ZnO薄膜电学特性 | 第37-38页 |
| ·AZO薄膜的表征 | 第38-43页 |
| ·AZO薄膜的光学特性 | 第38-41页 |
| ·AZO薄膜的输运性质 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-50页 |
| 第三章 AZO薄膜晶体管的制备与性能研究 | 第50-64页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·实验过程 | 第50-52页 |
| ·TFT原型器件工作模型与性能参数 | 第52-53页 |
| ·TFT原型器件的性能参数 | 第52页 |
| ·薄膜晶体管工作原理模型 | 第52-53页 |
| ·AZO-TFT的器件性能表征 | 第53-61页 |
| ·总结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第四章 总结与展望 | 第64-67页 |
| ·总结 | 第64-65页 |
| ·展望 | 第65-67页 |
| 硕士阶段发表的工作 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
