摘要 | 第1页 |
ABSTRACT | 第4-5页 |
目录 | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第7-19页 |
·课题研究背景 | 第7-8页 |
·氯代有机物HDC研究进展 | 第8-12页 |
·氯代有机物HDC机理 | 第8页 |
·氯代芳烃HDC催化剂 | 第8-12页 |
·磷化物的结构以及制备 | 第12-14页 |
·磷化镍催化剂在加氢脱氯方面的研究 | 第14-17页 |
·本论文的研究目的及内容 | 第17-19页 |
·研究思路及研究目的 | 第17-18页 |
·研究内容 | 第18-19页 |
第二章 实验方法 | 第19-25页 |
·实验原料与仪器 | 第19-20页 |
·实验原料与试剂 | 第19页 |
·实验仪器 | 第19-20页 |
·Ni_2P/SiO_2催化剂的制备 | 第20页 |
·催化剂的表征 | 第20-25页 |
·X-射线衍射 | 第20页 |
·BET比表面积及孔结构测定 | 第20-21页 |
·电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES) | 第21页 |
·催化剂还原性能测定(TPR) | 第21-22页 |
·高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第22页 |
·氢气程序升温脱附(H_2-TPD)测试 | 第22页 |
·氨程序升温脱附NH_3-TPD测试 | 第22-23页 |
·CO化学吸附 | 第23页 |
·原位漫反射红外光谱(DRIFTS)测试 | 第23-24页 |
·催化剂加氢脱氯性能评价 | 第24-25页 |
第三章 水蒸气处理对Ni_2P/SiO_2催化剂结构及氯苯加氢脱氯性能的研究 | 第25-54页 |
·反应过程中水蒸气对Ni_2P/SiO_2的HDC性能影响 | 第25-26页 |
·水蒸气预处理或钝化-再还原对Ni_2P/SiO_2催化剂HDC性能的影响 | 第26-30页 |
·水蒸气预处理的影响 | 第26-27页 |
·水蒸气处理温度对Ni_2P/SiO_2的HDC性能的影响 | 第27-28页 |
·水蒸气处理浓度对Ni_2P/SiO_2的HDC性能的影响 | 第28-29页 |
·水蒸气处理时间对Ni_2P/SiO_2的HDC性能的影响 | 第29-30页 |
·还原时间对Ni_2P/SiO_2催化剂的HDC催化性能的影响 | 第30页 |
·催化剂的表征结果及讨论 | 第30-52页 |
·催化剂中镍及磷的含量 | 第30-31页 |
·BET比表面积和孔结构的测定 | 第31-32页 |
·XRD表征结果及讨论 | 第32-34页 |
·HRTEM表征结果及讨论 | 第34-36页 |
·CO化学吸附结果及讨论 | 第36页 |
·催化剂还原性能的表征结果及讨论 | 第36-38页 |
·原位漫反射红外光谱测试结果及讨论 | 第38-48页 |
·NH_3-TPD表征结果及讨论 | 第48-50页 |
·H_2-TPD表征结果及讨论 | 第50-52页 |
·水蒸气处理对Ni_2P/SiO_2催化剂加氢脱氯活性影响分析 | 第52-54页 |
·Ni_2P/SiO_2表面镍中心电子结构的影响 | 第52页 |
·金属镍中心和P-OH之间的协同作用 | 第52-54页 |
第四章 结论 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-61页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第61-62页 |
致谢 | 第62页 |