| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| ·C/C材料的烧蚀机理 | 第8-10页 |
| ·C/C材料的热化学烧蚀 | 第8-9页 |
| ·C/C复合材料的机械剥蚀机理 | 第9-10页 |
| ·提高C/C材料抗烧蚀性能的途径 | 第10-13页 |
| ·基体改性 | 第11页 |
| ·涂层技术 | 第11-13页 |
| ·氧化锆涂层 | 第13-16页 |
| ·氧化锆的性质 | 第13页 |
| ·氧化锆涂层在C/C复合材料中的应用进展 | 第13-14页 |
| ·氧化锆涂层的制备方法 | 第14-16页 |
| ·研究目的、研究内容及研究方案 | 第16-18页 |
| ·研究目的 | 第16页 |
| ·论文主要研究内容 | 第16-17页 |
| ·研究方案 | 第17-18页 |
| 第二章 化学气相沉积ZrO_2涂层的热力学分析与实验方法 | 第18-27页 |
| ·化学气相沉积ZrO_2涂层反应热力学分析 | 第18-22页 |
| ·ZrCl_4-H_2-CO_2-Ar体系的热力学分析 | 第18-21页 |
| ·ZrCl_4-ZrC-CO_2-Ar体系的热力学分析 | 第21-22页 |
| ·ZrCl_4-SiC-CO_2-Ar体系的热力学分析 | 第22页 |
| ·实验方法 | 第22-25页 |
| ·反应设备 | 第22-23页 |
| ·反应原材料 | 第23-24页 |
| ·内部涂层的制备 | 第24-25页 |
| ·涂层检测方法与检测设备 | 第25-27页 |
| ·X射线衍射分析 | 第25页 |
| ·SEM表面形貌及组织结构分析 | 第25页 |
| ·能谱分析 | 第25-26页 |
| ·微观力学性能测试 | 第26页 |
| ·烧蚀性能测试 | 第26-27页 |
| 第三章 化学气相沉积ZrO_2涂层的沉积速率与沉积均匀性 | 第27-36页 |
| ·沉积速率及沉积均匀性的确定 | 第27-28页 |
| ·温度对化学气相沉积ZrO_2沉积速率及沉积均匀性的影响 | 第28-29页 |
| ·氢气流量对化学气相沉积ZrO_2的沉积速率及沉积均匀性的影响 | 第29-30页 |
| ·沉积基体对化学气相沉积ZrO_2沉积速率及沉积均匀性的影响 | 第30-31页 |
| ·沉积流程对化学气相沉积ZrO_2沉积速率及沉积均匀性的影响 | 第31-33页 |
| ·连续沉积及非连续沉积流程的定义 | 第31页 |
| ·沉积速率及沉积均匀性的计算 | 第31-33页 |
| ·工艺参数对化学气相沉积ZrO_2涂层沉积速率及沉积均匀性的影响机理 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 化学气相沉积ZrO_2及其复合涂层的显微结构特征 | 第36-49页 |
| ·化学气相沉积ZrO_2涂层的显微结构特征 | 第36-47页 |
| ·温度对化学气相沉积ZrO_2涂层显微结构特征的影响 | 第36-41页 |
| ·氢气流量对化学气相沉积ZrO_2涂层微观结构影响 | 第41-42页 |
| ·不同基体对化学气相沉积ZrO_2涂层的微观结构的影响 | 第42-45页 |
| ·沉积流程对化学气相沉积ZrO_2涂层涂层的微观结构的影响 | 第45-46页 |
| ·化学气相沉积ZrO_2涂层的表面过程机理 | 第46-47页 |
| ·ZrO_2+C单层复合涂层的制备 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 化学气相沉积ZrO_2涂层的微观力学性能与界面结合力 | 第49-53页 |
| ·化学气相沉积ZrO_2涂层的微观力学性能的测定 | 第49-50页 |
| ·化学气相沉积ZrO_2涂层的界面结合力 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第六章 化学气相沉积ZrO_2及其复合涂层的烧蚀性能 | 第53-62页 |
| ·ZrO_2涂层及其复合涂层的烧蚀性能 | 第53-54页 |
| ·ZrO_2涂层及其复合涂层烧蚀后的显微结构特征 | 第54-58页 |
| ·ZrO_2及其复合涂层的烧蚀机理 | 第58-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第七章 研究结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第68页 |
