| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-19页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·相变光存储材料 | 第8-10页 |
| ·TiNi 合金薄膜 | 第10-17页 |
| ·TiNi 合金薄膜的显微组织与相结构 | 第10-15页 |
| ·TiNi 合金薄膜的特性与应用 | 第15-17页 |
| ·研究意义及主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 试验材料及试验方法 | 第19-21页 |
| ·薄膜的制备与热处理 | 第19页 |
| ·薄膜组织结构的分析 | 第19页 |
| ·薄膜表面形貌的分析 | 第19页 |
| ·薄膜光学反射率的测试 | 第19-21页 |
| 第3章 TiNi 基合金薄膜的表面形貌 | 第21-37页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·Ti_(51.2)Ni_(48.8) 薄膜的表面形貌 | 第21-26页 |
| ·Ti_(54.5)Ni_(45.5) 薄膜的表面形貌 | 第26-32页 |
| ·Ti_(44.5)Ni_(46.9)Gd_(8.6) 薄膜的表面形貌 | 第32-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 TiNi 基合金薄膜的相结构 | 第37-43页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·Ti_(51.2)Ni_(48.8) 薄膜的相结构 | 第37-39页 |
| ·Ti_(54.5)Ni_(45.5) 薄膜的相结构 | 第39-40页 |
| ·Ti_(44.5)Ni_(46.9)Gd_(8.6) 薄膜的相结构 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第5章 TiNi 基合金薄膜的光学反射率 | 第43-56页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·Ti_(51.2)Ni_(48.8) 薄膜的光学反射率 | 第43-47页 |
| ·Ti_(54.5)Ni_(45.5) 薄膜的光学反射率 | 第47-51页 |
| ·Ti_(44.5)Ni_(46.9)Gd_(8.6) 薄膜的光学反射率 | 第51-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
