| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 引言 | 第11-14页 |
| 第二章 文献综述 | 第14-34页 |
| ·TiO_2半导体材料的发展 | 第14页 |
| ·TiO_2光催化性能研究 | 第14-17页 |
| ·TiO_2光催化机理 | 第14-15页 |
| ·TiO_2光催化性能的影响因素 | 第15-17页 |
| ·TiO_2超亲水性研究 | 第17-20页 |
| ·TiO_2超亲水性机理 | 第17-18页 |
| ·影响TiO_2亲水性的因素 | 第18-20页 |
| ·TiO_2薄膜的应用 | 第20-21页 |
| ·TiO_2的制备方法 | 第21-23页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第21页 |
| ·物理气相沉积 | 第21-22页 |
| ·喷雾热解法 | 第22页 |
| ·化学气相沉积法 | 第22-23页 |
| ·TiO_2光催化剂的改性 | 第23-31页 |
| ·沉积贵重金属 | 第23-24页 |
| ·过渡金属离子掺杂 | 第24-25页 |
| ·稀土元素离子的掺杂 | 第25-27页 |
| ·非金属掺杂 | 第27页 |
| ·复合半导体 | 第27-29页 |
| ·其他方法 | 第29-30页 |
| ·氟掺杂 | 第30-31页 |
| ·浮法在线镀膜工艺现状 | 第31-32页 |
| ·选题角度的确定 | 第32-34页 |
| 第三章 实验 | 第34-44页 |
| ·快速APCVD实验装置 | 第34-36页 |
| ·实验原料体系 | 第36-37页 |
| ·样品的制备 | 第37-39页 |
| ·基板的清洗 | 第37页 |
| ·薄膜样品的制备过程 | 第37-38页 |
| ·薄膜样品制备过程中的工艺参数 | 第38-39页 |
| ·测试方法 | 第39-44页 |
| ·薄膜表面形貌的测定 | 第39-40页 |
| ·薄膜结构的测定 | 第40页 |
| ·溥膜光催化性的测定 | 第40-42页 |
| ·薄膜亲水性的测定 | 第42-43页 |
| ·薄膜光学性能的测定 | 第43-44页 |
| 第四章 快速常压化学气相沉积法制备TiO_2薄膜工艺和性能研究 | 第44-72页 |
| ·基板温度对薄膜的结构、形貌及自清洁性能的影响 | 第44-50页 |
| ·不同基板温度下制备的TiO_2薄膜 | 第44页 |
| ·基板温度对沉积TiO_2晶相的影响 | 第44-46页 |
| ·基板温度对沉积TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第46-47页 |
| ·基板温度对薄膜光催化性能的影响 | 第47-48页 |
| ·基板温度对薄膜亲水性能的影响 | 第48-49页 |
| ·基板温度对薄膜光学性能的影响 | 第49-50页 |
| ·基板速度对薄膜的结构、形貌及自清洁性能的影响 | 第50-55页 |
| ·不同基板速度下制备的TiO_2薄膜 | 第50页 |
| ·基板速度对沉积TiO_2晶相的影响 | 第50-51页 |
| ·基板速度对沉积TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第51-53页 |
| ·基板速度对薄膜光催化性能的影响 | 第53-54页 |
| ·基板速度对薄膜亲水性能的影响 | 第54-55页 |
| ·基板速度对薄膜光学性能的影响 | 第55页 |
| ·反应总气流量对薄膜的结构、形貌及自清洁性能的影响 | 第55-62页 |
| ·不同总气流量下制备的TiO_2薄膜 | 第55-56页 |
| ·总气流量对沉积TiO_2晶相的影响 | 第56-57页 |
| ·总气流量对沉积TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第57-58页 |
| ·总气流量对薄膜光催化性能的影响 | 第58页 |
| ·总气流量对薄膜亲水性能的影响 | 第58-59页 |
| ·总气流量对薄膜光学性能的影响 | 第59-60页 |
| ·总气流量与基板移动速度之间的关系 | 第60-62页 |
| ·前驱体TTIP浓度对薄膜的结构、形貌及自清洁性能的影响 | 第62-68页 |
| ·不同TTIP浓度下制备的TiO_2薄膜 | 第62页 |
| ·TTIP浓度对沉积TiO_2晶相的影响 | 第62-63页 |
| ·TTIP浓度对沉积TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第63-65页 |
| ·TTIP浓度对薄膜光催化性能的影响 | 第65-66页 |
| ·TTIP浓度对薄膜亲水性能的影响 | 第66-67页 |
| ·TTIP浓度对薄膜光学性能的影响 | 第67-68页 |
| ·在线镀膜中化学气相沉积法成膜机理的探讨 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第五章 掺杂气体(TFE)量对TiO_2薄膜结构和性能的影响 | 第72-80页 |
| ·不同掺杂气体(TFE)量时制备的TiO_2薄膜 | 第72-73页 |
| ·不同掺杂气体(TFE)量对TiO_2薄膜结构和组成的影响 | 第73-74页 |
| ·不同掺杂气体(TFE)量对TiO_2薄膜光学性能的影响 | 第74-75页 |
| ·不同掺杂气体(TFE)量对TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第75-76页 |
| ·不同掺杂气体(TFE)量对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第76-78页 |
| ·不同掺杂气体(TFE)量对TiO_2薄膜亲水性能的影响 | 第78页 |
| ·本章小结 | 第78-80页 |
| 第六章 总结与展望 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-89页 |
| 研究生期间发表的学术论文 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
