中文摘要 | 第1-4页 |
英文摘要 | 第4-8页 |
1. 前言 | 第8-10页 |
第一章 文献综述 | 第10-44页 |
1. 催化酮的硅腈化反应——消旋化合物的制备方法 | 第10-21页 |
·HCN/H_2SO_4(浓) | 第10页 |
·Lewis acid 催化剂 | 第10-17页 |
·双功能和双活化催化剂 | 第17-18页 |
·非均相催化剂 | 第18-20页 |
·有机小分子催化剂 | 第20-21页 |
2. 催化酮的不对称腈化反应——光学活性氰醇的制备 | 第21-42页 |
·酶 | 第21页 |
·手性辅基参与的反应 | 第21-22页 |
·手性金属络合物催化剂 | 第22-35页 |
·钛络合物参与的不对称催化反应 | 第22-24页 |
·二肽-铝络合催化剂 | 第24-27页 |
·双功能催化剂 | 第27-31页 |
·双活化催化剂 | 第31-35页 |
·手性噁唑硼离子 | 第35-36页 |
·有机小分子催化剂 | 第36-42页 |
3 小结 | 第42-44页 |
第二章 课题的提出与设计 | 第44-46页 |
第三章 手性有机酸盐催化酮的不对称硅腈化反应研究 | 第46-81页 |
1. 消旋体制备及分析条件建立 | 第46-47页 |
2. 手性有机酸盐催化酮的不对称硅腈化反应 | 第47-70页 |
·催化剂合成及筛选 | 第47-51页 |
·溶剂对反应的影响 | 第51-52页 |
·加料顺序对反应的影响 | 第52-53页 |
·活化温度和时间对反应的影响 | 第53-54页 |
·底物浓度对反应的影响 | 第54-55页 |
·催化剂用量及TMSCN用量对反应的影响 | 第55-56页 |
·反应温度对对映选择性的影响 | 第56-57页 |
·底物适应性的初步探讨 | 第57-58页 |
·催化体系稳定性考察 | 第58-59页 |
·添加剂对反应的影响 | 第59-60页 |
·添加剂条件下考察底物结构对反应的影响 | 第60-61页 |
·催化剂中含水量对对映选择性的影响 | 第61-64页 |
·底物的进一步扩展及添加剂的筛选 | 第64-70页 |
3 反应机理的初步探讨 | 第70-77页 |
·NMR谱图方面的证据 | 第70-71页 |
·对照反应 | 第71-76页 |
·改进催化剂制备实验 | 第71-73页 |
·催化剂的结构修饰及催化反应 | 第73-76页 |
·非线性效应实验 | 第76-77页 |
4 提高对映选择性的进一步努力 | 第77-80页 |
5 催化剂回收 | 第80-81页 |
第四章 结论 | 第81-83页 |
第五章 实验部分 | 第83-101页 |
1 仪器与试剂 | 第83页 |
2 催化剂制备 | 第83-85页 |
3 底物酮制备 | 第85-88页 |
4 消旋氰醇硅醚制备 | 第88-94页 |
5 光学活性氰醇硅醚制备 | 第94-101页 |
参考文献 | 第101-106页 |
致谢 | 第106-107页 |
作者简历 | 第107-108页 |
附图 | 第108-113页 |