控制光学元件超光滑表面粗糙度的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章：绪论 | 第8-19页 |
| ·ICF课题提出的背景 | 第8-9页 |
| ·惯性约束核聚变(ICF)的国内外发展现状 | 第9-10页 |
| ·超光滑表面的主要特点和其它应用 | 第10-11页 |
| ·超精密抛光技术总结 | 第11-15页 |
| ·国内对大口径超光滑元件的研究现状 | 第15-16页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第16页 |
| 参考文献 | 第16-19页 |
| 第二章：ICF系统所用光学元件的技术指标和测量 | 第19-32页 |
| ·强激光系统对超精密光学表面的技术要求 | 第19-22页 |
| ·光学元件制造误差对ICF光学系统的影响 | 第19-21页 |
| ·ICF系统对光学元件的要求 | 第21-22页 |
| ·ICF系统所用超光滑光学元件的测试 | 第22-29页 |
| ·对大口径光学元件面形的测量 | 第22-23页 |
| ·对超光滑光学表面粗糙度的测量 | 第23-25页 |
| ·典型超光滑光学元件的测试结果 | 第25-29页 |
| ·现有加工技术的差距 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30页 |
| 参考文献 | 第30-32页 |
| 第三章：抛光液的pH值改进实验 | 第32-45页 |
| ·引言 | 第32-33页 |
| ·传统抛光过程中抛光工艺参量的控制 | 第33-36页 |
| ·抛光液的pH值对抛光质量影响的理论分析 | 第36-38页 |
| ·水对玻璃表面的水解作用 | 第37-38页 |
| ·抛光液体的pH值对抛光液分散性的影响 | 第38页 |
| ·抛光液的pH值对抛光质量影响的实验研究 | 第38-42页 |
| ·实验设备与测量方法 | 第38-40页 |
| ·实验现象和结果 | 第40-42页 |
| ·抛光液的pH值对抛光质量影响实验结果的理论分析 | 第42-43页 |
| ·抛光液对玻璃的腐蚀作用 | 第42页 |
| ·抛光液胶体分散性对玻璃表面粗糙度的影响 | 第42-43页 |
| ·本章结论 | 第43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 第四章：抛光粉的参量改进实验 | 第45-54页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·抛光粉粒度对抛光质量的影响 | 第45-46页 |
| ·抛光粉的晶粒对抛光质量的影响 | 第46页 |
| ·抛光粉的抗破碎强度和形状对抛光质量 | 第46页 |
| ·抛光过程中抛光粉参量的变化规律 | 第46-51页 |
| ·实验参量的测量 | 第46页 |
| ·抛光粉的粒度分布和平均晶粒随抛光时间的变化规律 | 第46-49页 |
| ·抛光粉的颗粒形貌随抛光时间的变化 | 第49-51页 |
| ·抛光周期和阶段的划分 | 第51-52页 |
| ·抛光周期的划分根据 | 第51页 |
| ·抛光周期中各个阶段对抛光质量的影响 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
| 第六章 总结 | 第54-55页 |
| 附录 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
