纳米CuO脱硫剂制备及在污水厂臭气处理中脱臭性能研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第1章 绪论 | 第10-22页 |
·课题研究背景 | 第10-12页 |
·污水厂的恶臭污染 | 第10-11页 |
·硫化氢的危害 | 第11-12页 |
·污水厂中硫化氢气体的产生及控制方法 | 第12-13页 |
·脱硫技术的研究现状 | 第13-19页 |
·生物脱硫技术 | 第13页 |
·物理及化学脱硫技术 | 第13-19页 |
·脱硫技术的发展趋势 | 第19-20页 |
·论文研究的来源、目的和意义 | 第20-21页 |
·本课题来源 | 第20页 |
·本课题的研究目的和意义 | 第20-21页 |
·本课题研究的主要内容 | 第21-22页 |
第2章 试验装置及试验方法 | 第22-30页 |
·脱硫性能的评价方法 | 第22-25页 |
·脱硫活性评价装置 | 第22-23页 |
·脱硫剂硫容的测定方法 | 第23-25页 |
·脱硫剂的表征手段和测试 | 第25-27页 |
·X 射线衍射测试(XRD) | 第25页 |
·透射电子显微镜测试(TEM) | 第25-26页 |
·富立叶红外光谱(FT-IR) | 第26页 |
·差热-热重分析(DTA-TG) | 第26页 |
·X 射线光电子能谱分析(XPS) | 第26页 |
·比表面积的测定 | 第26-27页 |
·实验所用药品及仪器 | 第27-28页 |
·脱硫反应硫化氢气体的制备 | 第28-30页 |
第3章 纳米氧化铜制备方法研究 | 第30-50页 |
·纳米氧化铜的制备工艺 | 第30-31页 |
·固相法 | 第30页 |
·气相法 | 第30-31页 |
·液相法 | 第31页 |
·其它方法 | 第31页 |
·直接沉淀法制备氧化铜 | 第31-35页 |
·铜盐及沉淀剂的选择 | 第31-32页 |
·制备工艺及反应原理 | 第32页 |
·前驱体成分分析 | 第32-35页 |
·纳米氧化铜微结构控制 | 第35-43页 |
·乙醇分散系溶液对纳米CuO 结构的影响 | 第35-38页 |
·沉淀温度对纳米氧化铜结构的影响 | 第38-40页 |
·溶液浓度对纳米CuO 结构的影响 | 第40-42页 |
·老化时间对纳米氧化铜结构的影响 | 第42-43页 |
·培烧温度对产物的影响 | 第43-45页 |
·X 射线衍射测试(XRD) | 第43-44页 |
·比表面积 | 第44页 |
·TEM 分析 | 第44-45页 |
·一步沉淀法 | 第45-48页 |
·不同老化时间的XRD 分析 | 第46页 |
·红外吸收光谱(FT-IR) | 第46-47页 |
·透射电镜(TEM) | 第47-48页 |
·一步法纳米氧化铜的结晶过程分析 | 第48页 |
·本章小结 | 第48-50页 |
第4章 纳米氧化铜常温脱除硫化氢的性能研究 | 第50-57页 |
·纳米氧化铜脱硫可行性研究 | 第50-51页 |
·两种方法制备得到纳米氧化铜的脱硫效果比较 | 第51-52页 |
·脱硫试验中各工艺参数对脱硫结果的影响 | 第52-54页 |
·空速对纳米CuO 脱硫活性的影响 | 第52-53页 |
·脱硫反应温度对纳米CuO 脱硫性能的影响 | 第53-54页 |
·不同粒径纳米CuO 脱硫剂与性能的关系 | 第54-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第5章 纳米氧化铜脱硫产物分析 | 第57-66页 |
·脱硫反应后颜色变化 | 第57页 |
·X 射线衍射测试(XRD) | 第57-59页 |
·X 射线光电子能谱分析(XPS) | 第59-63页 |
·硫元素分析 | 第60-61页 |
·铜元素分析 | 第61-62页 |
·氧元素分析 | 第62-63页 |
·脱硫机理讨论 | 第63-64页 |
·本章小结 | 第64-66页 |
结论 | 第66-67页 |
建议 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-74页 |
致谢 | 第74页 |