红外成像电子学理论及其关键技术研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 1 绪论 | 第12-26页 |
| ·红外成像技术的发展概述 | 第12-16页 |
| ·红外成像电子学研究基础与本文研究方向 | 第16-19页 |
| ·论文的研究背景与创新点 | 第19-20页 |
| ·论文主要研究工作和取得的成果 | 第20-23页 |
| 参考文献 | 第23-26页 |
| 2 红外成像电子学理论研究 | 第26-58页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·红外成像基本理论 | 第26-30页 |
| ·红外辐射特性与辐射定律 | 第26-28页 |
| ·红外辐射在大气中的传输 | 第28-29页 |
| ·红外光学系统 | 第29-30页 |
| ·红外焦平面阵列探测器非均匀性理论模型建立 | 第30-37页 |
| ·红外焦平面探测器响应“S”型曲线模型 | 第31-34页 |
| ·红外焦平面阵列二元非线性的非均匀性理论模型 | 第34-37页 |
| ·红外焦平面阵列无效像元理论模型建立 | 第37-41页 |
| ·无效像元的形成机理 | 第37-38页 |
| ·红外焦平面阵列探测器响应统计特征模型 | 第38-41页 |
| ·红外焦平面阵列微扫描成像理论模型 | 第41-54页 |
| ·红外成像微扫描方案 | 第42-46页 |
| ·微扫描消除混淆效应理论模型建立 | 第46-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 3 红外成像电子学关键技术研究 | 第58-105页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·红外焦平面阵列探测器参数测试评估技术研究 | 第58-66页 |
| ·红外焦平面阵列探测器性能参数测试原理 | 第59-60页 |
| ·红外焦平面阵列探测器性能参数测试平台 | 第60-62页 |
| ·测试方法及结果分析 | 第62-66页 |
| ·红外成像电子学处理算法动态仿真技术研究 | 第66-71页 |
| ·红外成像电子学处理算法动态仿真技术硬件 | 第67-68页 |
| ·红外成像电子学处理算法动态仿真技术软件 | 第68-70页 |
| ·红外成像电子学处理算法动态仿真技术应用 | 第70-71页 |
| ·红外焦平面阵列探测器非均匀性校正技术研究 | 第71-86页 |
| ·现有非均匀性校正技术 | 第72-80页 |
| ·基于环境温度补偿的非均匀性校正技术研究 | 第80-86页 |
| ·红外焦平面阵列探测器无效像元检测技术研究 | 第86-93页 |
| ·已有的无效像元检测技术 | 第86-90页 |
| ·基于多温度匹配的无效像元检测技术研究 | 第90-93页 |
| ·自适应红外成像对比度增强技术研究 | 第93-100页 |
| ·自适应红外图像直方图分段修正技术研究 | 第94-97页 |
| ·基于无效灰度剔除的红外成像对比度增强研究 | 第97-100页 |
| ·本章小结 | 第100-101页 |
| 参考文献 | 第101-105页 |
| 4 理论模型验证和关键技术评估 | 第105-129页 |
| ·引言 | 第105页 |
| ·二元非线性的非均匀性理论模型验证 | 第105-108页 |
| ·红外焦平面阵列探测器响应统计特征理论模型验证 | 第108-112页 |
| ·微扫描消除混淆效应理论模型验证 | 第112-113页 |
| ·基于环境温度补偿的非均匀性校正技术评估 | 第113-118页 |
| ·基于多温度匹配的无效像元检测技术评估 | 第118-120页 |
| ·自适应红外成像对比度增强技术评估 | 第120-124页 |
| ·红外成像电子学关键技术应用 | 第124-125页 |
| ·本章小结 | 第125-127页 |
| 参考文献 | 第127-129页 |
| 5 结束语 | 第129-132页 |
| ·论文结论 | 第129-131页 |
| ·研究展望 | 第131-132页 |
| 致谢 | 第132-133页 |
| 附录A:读博士期间发表的学术论文 | 第133-134页 |
| 附录B:读博士期间取得的研究成果与获奖情况 | 第134页 |
