| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-12页 |
| 第一章 前言 | 第12-34页 |
| ·CVD金刚石薄膜研究概况 | 第12-19页 |
| ·金刚石薄膜的历史 | 第12-13页 |
| ·金刚石薄膜研究的优异性能及其应用 | 第13-17页 |
| ·CVD金刚石薄膜的制备技术 | 第17-19页 |
| ·紫外光探测技术概述 | 第19-28页 |
| ·紫外探测器的分类和工作原理 | 第20-21页 |
| ·CVD金刚石膜紫外光探测器 | 第21-27页 |
| ·金刚石薄膜的研究 | 第22-23页 |
| ·金刚石膜紫外光探测器结构的研究 | 第23-24页 |
| ·电极材料和表面处理工艺 | 第24-25页 |
| ·金刚石膜紫外探测器的应用进展 | 第25-27页 |
| ·ZnO紫外光探测器 | 第27页 |
| ·其它的紫外光探测器 | 第27-28页 |
| ·X射线掩膜技术概述 | 第28-31页 |
| ·立题依据及主要研究内容 | 第31-34页 |
| ·立题依据 | 第31-33页 |
| ·本文主要研究内容 | 第33-34页 |
| 第二章 金刚石膜紫外探测器的制备及性能研究 | 第34-58页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·实验过程 | 第34-47页 |
| ·金刚石薄膜的制备 | 第34-36页 |
| ·金刚石薄膜的表征 | 第36-47页 |
| ·形貌结构表征 | 第36-42页 |
| ·质量表征 | 第42-43页 |
| ·电学性能表征 | 第43-47页 |
| ·金刚石薄膜紫外光探测器的制备工艺 | 第47-48页 |
| ·金刚石薄膜紫外光探测器的性能研究 | 第48-56页 |
| ·薄膜晶粒尺寸对探测器性能的影响 | 第48-51页 |
| ·薄膜取向性对探测器性能的影响 | 第51-55页 |
| ·器件后处理工艺对探测器性能的影响 | 第55-56页 |
| ·本章小节 | 第56-58页 |
| 第三章 金刚石膜在ZnO紫外探测器中的应用研究 | 第58-80页 |
| ·引言 | 第58-59页 |
| ·实验过程 | 第59-62页 |
| ·实验装置 | 第59-60页 |
| ·金刚石薄膜的制备 | 第60-62页 |
| ·ZnO/金刚石薄膜结构紫外光探测器的制备 | 第62页 |
| ·金刚石薄膜的制备工艺研究及性能表征 | 第62-72页 |
| ·衬底及其预处理的影响 | 第62-64页 |
| ·自支撑金刚石膜性能表征 | 第64-72页 |
| ·ZnO/金刚石薄膜结构紫外光探测器的电学性能及光响应特性 | 第72-78页 |
| ·本章小节 | 第78-80页 |
| 第四章 金刚石膜X射线光刻掩膜材料的初步研究 | 第80-96页 |
| ·引言 | 第80-81页 |
| ·纳米金刚石薄膜的制备 | 第81页 |
| ·工艺参数对纳米金刚石薄膜性能的影响 | 第81-89页 |
| ·沉积温度对纳米金刚石薄膜性能的影响 | 第81-85页 |
| ·沉积压强对纳米金刚石薄膜性能的影响 | 第85-89页 |
| ·氢刻蚀对薄膜光学性能的影响 | 第89-94页 |
| ·工艺参数的改进 | 第89页 |
| ·薄膜性能的表征 | 第89-94页 |
| ·本章小节 | 第94-96页 |
| 第五章 结论 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-106页 |
| 作者在攻读博士学位期间公开发表的论文 | 第106-107页 |
| 作者在攻读博士学位期间申请的专利 | 第107-108页 |
| 攻读博士学位期间所承担的科研项目 | 第108-109页 |
| 个人简历 | 第109-110页 |
| 致谢 | 第110页 |