| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-21页 |
| ·研究背景及意义 | 第9-10页 |
| ·声表面波滤波器 | 第10-13页 |
| ·声表面波滤波器的结构 | 第10-12页 |
| ·SAWF的发展趋势 | 第12-13页 |
| ·LINBO_3/IDT/金刚石/SI多层结构高频声表面波滤波器 | 第13-18页 |
| ·LiNbO_3/IDT/金刚石/Si多层结构高频声表面波滤波器结构原理 | 第13-14页 |
| ·铌酸锂（LN）薄膜的特性 | 第14-16页 |
| ·铌酸锂（LN）薄膜的制备方法 | 第16-17页 |
| ·金刚石多层膜SAWF的模拟 | 第17-18页 |
| ·本文的立项依据和主要工作 | 第18-21页 |
| 第二章 多层结构高频声表面波滤波器的模拟仿真 | 第21-29页 |
| ·引言 | 第21-22页 |
| ·模态耦合模型的设计原理及模型推导 | 第22-27页 |
| ·耦合模型理论 | 第22-23页 |
| ·耦合（COM）矩阵模型 | 第23-26页 |
| ·多层膜SAWF仿真结果及分析 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-29页 |
| 第三章 基于SAWF铌酸锂薄膜的制备技术研究 | 第29-37页 |
| ·声表面波材料的选折 | 第29-30页 |
| ·铌酸锂的结构和特性 | 第30-32页 |
| ·铌酸锂压电薄膜的射频磁控溅射制备 | 第32-37页 |
| ·射频磁控溅射装置 | 第32-33页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第33-34页 |
| ·磁控溅射 | 第34-37页 |
| 第四章 金刚石上射频磁控溅射铌酸锂的研究 | 第37-46页 |
| ·射频磁控溅射制备工艺 | 第37-40页 |
| ·靶材对铌酸锂薄膜质量的影响 | 第37-40页 |
| ·金刚石沉底的优良声表面波性能 | 第40-41页 |
| ·试验工艺对薄膜取向的影响 | 第41-44页 |
| ·氩氧流量比对铌酸锂薄膜取向的影响 | 第41-43页 |
| ·气压对铌酸锂薄膜取向的影响 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第五章 SI衬底上射频磁控溅射CBN的初步研究 | 第46-54页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·立方氮化硼的性质 | 第46-50页 |
| ·氮化硼的四种异构体 | 第46-50页 |
| ·立方氮化硼薄膜的制备方法 | 第50-51页 |
| ·物理气相沉积((PVD) | 第50-51页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第51页 |
| ·薄膜制备和性能分析 | 第51-54页 |
| ·薄膜的制备 | 第51页 |
| ·实验结果分析 | 第51-54页 |
| 第六章 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 发表论文及参与科研 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |