| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| ·课题研究背景 | 第10-13页 |
| ·课题研究意义 | 第13-16页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第16-17页 |
| 第二章 太阳能电池原理及薄膜制备与表征方法 | 第17-38页 |
| ·太阳能电池基本原理 | 第17-25页 |
| ·半导体光吸收 | 第17-21页 |
| ·半导体PN 结基础 | 第21-24页 |
| ·光生伏特效应 | 第24-25页 |
| ·太阳能电池的重要参数 | 第25-30页 |
| ·开路电压与短路电流 | 第25-28页 |
| ·光电转换效率和填充因子 | 第28-30页 |
| ·薄膜制备设备 | 第30-34页 |
| ·磁控溅射 | 第30-32页 |
| ·PECVD | 第32-34页 |
| ·主要测试手段 | 第34-38页 |
| ·薄膜厚度测试 | 第34-36页 |
| ·薄膜方块电阻测试 | 第36-37页 |
| ·光伏电流电压测试 | 第37页 |
| ·其它表征方法 | 第37-38页 |
| 第三章 直流磁控反应溅射制备NiO_x薄膜 | 第38-51页 |
| ·P-NiO_x 薄膜 | 第38-39页 |
| ·基片准备 | 第39页 |
| ·NiO_x 薄膜制备的主要参数及实验步骤 | 第39-41页 |
| ·氧/氩比对NiO_x 薄膜的影响 | 第41-47页 |
| ·衬底温度对NiO_x 薄膜光电特性的影响 | 第47-48页 |
| ·退火温度对NiO_x 薄膜的影响 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 射频磁控溅射制备AZO 薄膜 | 第51-67页 |
| ·AZO 薄膜导电机制及运用 | 第51-53页 |
| ·材料及主要参数 | 第53-55页 |
| ·Ar 气压强对AZO 薄膜的影响 | 第55-61页 |
| ·Ar 气压强对AZO 薄膜形貌的影响 | 第55-58页 |
| ·Ar 气压强对AZO 薄膜电学特性的影响 | 第58-59页 |
| ·Ar 气压强对AZO 薄膜光学特性的影响 | 第59-61页 |
| ·RF 功率对AZO 薄膜的影响 | 第61-66页 |
| ·RF 功率对AZO 薄膜的结构、形貌影响 | 第61-64页 |
| ·RF 功率对AZO 薄膜电学特性的影响 | 第64页 |
| ·RF 功率对AZO 薄膜光学特性的影响 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 NiO_x/a-Si/AZO 太阳能电池初步制备与测试 | 第67-73页 |
| ·非晶硅薄膜 | 第67-69页 |
| ·NiO_x/a-Si/AZO 太阳能电池制备 | 第69-71页 |
| ·NiO_x/a-Si/AZO 太阳能电池制备 | 第69页 |
| ·AZO/Al 欧姆接触 | 第69-70页 |
| ·NiO_x 与电极接触 | 第70-71页 |
| ·NiO_x/a-Si/AZO 太阳能电池测试 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 结论 | 第73-75页 |
| ·结论 | 第73-74页 |
| ·存在的问题及建议 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第80-81页 |