冷喷涂中的气固两相流激波及表面沉积分子动力学模拟研究
中文摘要 | 第1-6页 |
英文摘要 | 第6-12页 |
主要符号表 | 第12-13页 |
1 绪论 | 第13-17页 |
2 纳米科技及冷喷涂 | 第17-39页 |
·纳米科技的重要意义 | 第17-18页 |
·什么是纳米科技 | 第18-19页 |
·纳米材料 | 第19-24页 |
·纳米材料的特性 | 第20-21页 |
·纳米材料的应用领域 | 第21-22页 |
·纳米材料研究的现状 | 第22-24页 |
·纳米复合涂层 | 第24-26页 |
·纳米涂层前景展望 | 第24-25页 |
·纳米涂层材料类型 | 第25页 |
·纳米涂层制备技术现状 | 第25-26页 |
·存在的问题 | 第26-27页 |
·对于纳米科技的发展存在的问题 | 第26页 |
·对于热喷涂制备纳米结构涂层存在的问题 | 第26-27页 |
·冷喷涂是热喷涂技术演进的一种趋势 | 第27-28页 |
·冷喷涂的原理和过程 | 第28-30页 |
·冷喷涂技术的主要优缺点 | 第30-31页 |
·冷喷涂的研究现状 | 第31-37页 |
·国外目前的研究状况 | 第31-33页 |
·我国目前的研究现状 | 第33-34页 |
·冷喷涂涂层性能的研究 | 第34-35页 |
·影响喷涂效果的因素 | 第35-37页 |
·冷喷涂技术需要解决的问题 | 第37-39页 |
3 气固两相流音速与激波 | 第39-53页 |
·气固两相流音速研究 | 第39-40页 |
·气固两相介质音速 | 第40-43页 |
·空气与水的音速 | 第40-41页 |
·不同气体与固体粉末两相介质的音速 | 第41-42页 |
·两相介质音速实验结果比较 | 第42-43页 |
·两相流激波及其在冷喷涂中的作用 | 第43-44页 |
·激波 | 第43页 |
·两相流激波及其在冷喷涂中的作用 | 第43-44页 |
·气固两相流激波分析数学模型的建立 | 第44-46页 |
·气固两相流激波计算结果分析 | 第46-51页 |
·相间滑移对气固两相流激波的影响 | 第48-49页 |
·热交换对气固两相激波的影响 | 第49页 |
·不同固相粉末时的气固两相流激波 | 第49-50页 |
·不同波前压力对气固两相流激波的影响 | 第50-51页 |
·波前温度对气固两相流激波的影响 | 第51页 |
·单相音速和两相音速模型激波结果的比较 | 第51-52页 |
·小结 | 第52-53页 |
4 分子动力学模拟 | 第53-75页 |
·计算机模拟的意义及发展概况 | 第53-55页 |
·分子动力学模拟的基本步骤 | 第55-59页 |
·确定研究对象 | 第55页 |
·建立位能模型 | 第55页 |
·建立分子运动方程 | 第55-56页 |
·确定初始条件 | 第56页 |
·确定边界条件 | 第56-57页 |
·位能截断 | 第57页 |
·实施模拟并提取感兴趣的量 | 第57-59页 |
·分子动力学模拟的系综 | 第59-62页 |
·平衡系综的分类 | 第59-60页 |
·平衡系综的控制方法 | 第60-62页 |
·有限差分法 | 第62-63页 |
·Verlet 算法 | 第62页 |
·Velocity-Verlet 算法 | 第62页 |
·Leap-frog 算法 | 第62页 |
·Beeman 算法 | 第62页 |
·Gear 算法 | 第62-63页 |
·Rahman 算法 | 第63页 |
·原子间的作用势 | 第63-68页 |
·对势 | 第64-65页 |
·多体势 | 第65-66页 |
·Johnson 的分析型EAM 模型 | 第66-67页 |
·EAM 模型的修正 | 第67页 |
·修正的普适分析型EAM 模型 | 第67-68页 |
·F.ERCOLESSI 的GLUE 模型 | 第68-72页 |
·GLUE 模型 | 第68-70页 |
·Au 的GLUE 势函数 | 第70-72页 |
·时间步长 | 第72-75页 |
5 AU纳米团簇熔点的研究 | 第75-103页 |
·研究方法 | 第75页 |
·模拟结果 | 第75-99页 |
·Au256 的模拟结果 | 第76-78页 |
·Au500 的模拟结果 | 第78-80页 |
·Au864 的模拟结果 | 第80-82页 |
·Au1372 的模拟结果 | 第82-84页 |
·Au2048 的模拟结果 | 第84-86页 |
·Au4000 的模拟结果 | 第86-88页 |
·Au5324 的模拟结果 | 第88-90页 |
·Au6912 的模拟结果 | 第90-92页 |
·Au8788 的模拟结果 | 第92-94页 |
·Au13500 的模拟结果 | 第94-97页 |
·Au32000 的模拟结果 | 第97-99页 |
·AU 团簇熔点温度随团簇原子数变化的结果分析 | 第99-100页 |
·小结 | 第100-103页 |
6 沉积过程的分子动力学模拟 | 第103-115页 |
·计算模型 | 第103-104页 |
·计算结果与讨论 | 第104-112页 |
·团簇在基体上的沉积过程三维形态 | 第104-107页 |
·团簇在基体上的沉积过程投影图 | 第107-108页 |
·沉积过程中团簇原子形态变化 | 第108-109页 |
·基体和团簇的径向分布函数 | 第109-110页 |
·沉积过程中基体温度的变化 | 第110-112页 |
·影响团簇沉积过程的因素 | 第112-114页 |
·入射团簇的速度 | 第112-113页 |
·入射团簇的大小 | 第113-114页 |
·小结 | 第114-115页 |
7 结论 | 第115-117页 |
致谢 | 第117-119页 |
参考文献 | 第119-127页 |
附录:作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第127-128页 |
独创性声明 | 第128页 |
学位论文版权使用授权书 | 第128页 |