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反可见、中红外透10.6μm高能激光分色镜的研制

第1章 绪论第1-15页
   ·光学薄膜的发展现状第7-10页
   ·论文选题背景第10-13页
     ·激光武器的发展现状第10-13页
   ·问题的引出第13-15页
第2章 光学薄膜的基本理论第15-22页
第3章 分色镜方案和材料优选第22-29页
   ·分色镜的实现方案第22页
   ·分色镜的制作材料第22-29页
     ·基底材料第22-25页
     ·镀膜材料的选取第25-29页
第4章 膜系设计第29-47页
   ·膜系设计的基本理论第29-37页
     ·膜系优化设计基本原理及评价函数的构成第30-32页
     ·优化方法第32-37页
   ·全介质高反射膜系第37-47页
第5章 分色镜的镀膜工艺第47-60页
   ·制备手段第47-49页
   ·制备工艺第49-53页
     ·基底处理第49-50页
     ·制备参数第50-51页
     ·厚度控制第51-53页
   ·高能激光分色镜镀膜后的激光预处理第53-54页
   ·高能激光分色镜的镀制第54-59页
     ·分色镜材料的定标实验第56-59页
   ·小结第59-60页
第6章 高能激光分色镜的光谱与激光阈值的测量第60-69页
   ·高能激光分色镜光谱的测量第60-62页
   ·分色镜CO_2 激光损伤阈值的测试第62-69页
     ·光学薄膜被激光损伤的定义第63页
     ·薄膜激光损伤阈值的定义与测量结果第63-66页
     ·分色镜激光阈值实验测量结果及分析第66-69页
第7章 结束语第69-70页
参考文献第70-75页
发表文章第75-76页
致谢第76-77页
作者简介第77-78页
硕士学位论文原创性声明第78页

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