等离子弧表面淬火电源设备的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-22页 |
| ·表面淬火技术的分类、比较及其发展 | 第12-16页 |
| ·等离子弧表面淬火技术及其发展 | 第16-18页 |
| ·等离子弧表面淬火设备的研究现状 | 第18-19页 |
| ·本课题的提出 | 第19-20页 |
| ·本课题研究的目的和内容 | 第20-22页 |
| 2 等离子弧的基本原理及系统设备的组成 | 第22-33页 |
| ·等离子弧的结构形式 | 第22-23页 |
| ·等离子弧的伏安特性 | 第23-26页 |
| ·等离子弧的特点 | 第26-27页 |
| ·等离子弧表面淬火设备 | 第27-33页 |
| ·等离子表面淬火设备组成 | 第27-28页 |
| ·等离子弧表面淬火电源特性 | 第28页 |
| ·逆变器电源 | 第28-31页 |
| ·电气控制系统及其它设备 | 第31-33页 |
| 3 电源参数和控制系统 | 第33-49页 |
| ·等离子弧表面淬火过程分析 | 第33-41页 |
| ·系统存在的问题及其解决方法 | 第34-38页 |
| ·模拟量I／O模块 | 第38-39页 |
| ·PLC的工作原理 | 第39页 |
| ·PLC与其他顺序逻辑控制系统的比较 | 第39-41页 |
| ·控制电路的设计 | 第41-43页 |
| ·PLC主控电路 | 第41-42页 |
| ·开关电路 | 第42页 |
| ·接口电路 | 第42-43页 |
| ·上位机数据的接收和控制系统的通讯实现 | 第43-49页 |
| ·变量记录界面的设计 | 第44-46页 |
| ·RS-485传输 | 第46-47页 |
| ·TD200文本显示器 | 第47-49页 |
| 4 控制程序的编写 | 第49-55页 |
| ·S7—200编程软件及程序的结构 | 第49-50页 |
| ·设备控制程序的编写 | 第50-55页 |
| ·主程序 | 第50-51页 |
| ·子程序 | 第51页 |
| ·中断程序 | 第51-55页 |
| 5 试验 | 第55-63页 |
| ·试验目的 | 第55页 |
| ·等离子弧淬火试验准备 | 第55页 |
| ·淬火工艺参数的确定 | 第55-56页 |
| ·淬火过程 | 第56页 |
| ·试验结果分析 | 第56-61页 |
| ·淬火工艺参数对表面硬度的影响 | 第56-61页 |
| ·工艺参数总结 | 第61-63页 |
| 6 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 附录A 初使化程序 | 第68-73页 |
| 在学研究成果 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
