第一章 绪论 | 第1-17页 |
1.1 太阳能电池 | 第8页 |
1.2 太阳能电池的分类 | 第8-10页 |
1.2.1 单晶硅太阳能电池 | 第8-9页 |
1.2.2 多晶硅薄膜太阳能电池 | 第9页 |
1.2.3 非晶硅薄膜太阳能电池 | 第9页 |
1.2.4 多元化合物薄膜太阳能电池 | 第9-10页 |
1.3 太阳能电池新型材料的研究 | 第10-16页 |
1.3.1 太阳能电池吸收层材料 | 第10-13页 |
a. SnS 薄膜的性能 | 第10-11页 |
b. SnS 薄膜的制备方法 | 第11-13页 |
1.3.2 太阳能电池窗口材料 | 第13-16页 |
a. ZnO薄膜的性能 | 第13-14页 |
b. ZnO薄膜的制备方法 | 第14-16页 |
1.4 本课题的内容和意义 | 第16-17页 |
第二章 SnS薄膜的制备 | 第17-27页 |
2.1 化学浴沉积法制备SnS薄膜 | 第17-21页 |
2.1.1 实验药品及主要设备 | 第17-18页 |
2.1.2 衬底预处理 | 第18页 |
2.1.3 反应溶液的配制 | 第18-19页 |
2.1.4 SnS薄膜的沉积 | 第19页 |
2.1.5 烘干及热处理 | 第19页 |
2.1.6 化学浴沉积 SnS薄膜的机理分析 | 第19-21页 |
2.2 SILAR法制备 SnS薄膜 | 第21-26页 |
2.2.1 实验药品及设备 | 第21-22页 |
2.2.2 SnS薄膜的制备 | 第22页 |
2.2.3 烘干及热处理 | 第22-23页 |
2.2.4 影响 SnS薄膜品质的因素分析 | 第23-26页 |
2.3 结论 | 第26-27页 |
第三章 SnS薄膜的表征与分析 | 第27-34页 |
3.1 不同方法对 SnS薄膜沉积的影响 | 第27-28页 |
3.1.1 XRD分析 | 第27-28页 |
3.1.2 SEM分析 | 第28页 |
3.2 SILAR法中溶液浓度对薄膜的影响 | 第28-31页 |
3.2.1 XRD分析 | 第28-29页 |
3.2.2 SEM分析 | 第29-30页 |
3.2.3 能谱分析 | 第30-31页 |
3.3 不同衬底对 SnS薄膜沉积的影响 | 第31-33页 |
3.3.1 XRD分析 | 第31-32页 |
3.3.2 SEM分析 | 第32-33页 |
3.4 小结 | 第33-34页 |
第四章 连续离子层吸附反应(SILAR)法制备 ZnO薄膜 | 第34-43页 |
4.1 前言 | 第34页 |
4.2 SILAR法制备 ZnO薄膜 | 第34-39页 |
4.2.1 实验药品及设备 | 第34页 |
4.2.2 制备方案 | 第34页 |
4.2.3 SILAR法方案1制备ZnO薄膜 | 第34-35页 |
4.2.4 SILAR法方案2制备ZnO薄膜 | 第35-36页 |
4.2.5 薄膜表征与分析 | 第36-39页 |
a. XRD结果分析 | 第36-37页 |
b. SEM结果分析 | 第37-38页 |
c. 能谱分析 | 第38-39页 |
4.3 SILAR法制备ZnO: Al(AZO)薄膜 | 第39-41页 |
4.3.1 XRD结果分析 | 第39-40页 |
4.3.2 SEM结果分析 | 第40-41页 |
4.4 ZnO薄膜的电学性能分析 | 第41-42页 |
4.4.1 掺杂对 ZnO薄膜电学性能的影响 | 第41页 |
4.4.2 退火温度对 ZnO薄膜电学性能的影响 | 第41-42页 |
4.5 小结 | 第42-43页 |
第五章 结论 | 第43-44页 |
致谢 | 第44-45页 |
参考文献 | 第45-53页 |
附录 | 第53页 |