微通道板双面抛光工艺研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 1 绪论 | 第9-11页 |
| ·本论文的研究背景 | 第9-10页 |
| ·本论文研究主要内容 | 第10-11页 |
| 2 微通道板的基本原理和主要特征性能 | 第11-20页 |
| ·微通道板的基本原理 | 第11-12页 |
| ·微通道板的主要特征性能 | 第12-20页 |
| ·微通道板的长径比 | 第12-13页 |
| ·微通道板的开口面积比 | 第13页 |
| ·微通道板的通道内壁结构 | 第13-15页 |
| ·微通道板的增益及其均匀性 | 第15-17页 |
| ·微通道板的躁声 | 第17-18页 |
| ·微通道板的动态范围 | 第18页 |
| ·微通道板的工作作寿命 | 第18-19页 |
| ·微通道板的空间分辨率 | 第19-20页 |
| 3 微通道板的制造工艺 | 第20-31页 |
| ·微通道板制造的工艺流程 | 第21页 |
| ·微通道板芯、皮料的制备工艺 | 第21-22页 |
| ·微通道板的拉丝、排屏工艺 | 第22-23页 |
| ·微通道板的压屏工艺 | 第23-24页 |
| ·微通道板的冷加工工艺 | 第24-26页 |
| ·微通道板的腐蚀工艺 | 第26-27页 |
| ·微通道板的氢还原工艺 | 第27-28页 |
| ·微通道板的镀电极膜工艺 | 第28-30页 |
| ·微通道板的测试、包装工艺 | 第30-31页 |
| 4 微通道板的双面抛光工艺研究 | 第31-46页 |
| ·微通道板抛光运动、受力分析和数学模型 | 第31-35页 |
| ·微通道板的双面抛光机理分析 | 第35-36页 |
| ·夹具、研磨盘、抛光垫和抛光粉 | 第36-38页 |
| ·夹具 | 第36页 |
| ·研磨盘 | 第36-37页 |
| ·抛光垫 | 第37页 |
| ·抛光粉 | 第37-38页 |
| ·双面抛光的压力和时间 | 第38-40页 |
| ·微通道板双面抛光过程中的化学侵蚀 | 第40-42页 |
| ·微通道板的双面抛光过程中的自防护措施 | 第42-43页 |
| ·微通道板的表面杂质的处理 | 第43-45页 |
| ·微通道板的双面抛光下盘后的处理 | 第45-46页 |
| 5 微通道板的双面抛光液试验设计及实验结果和分析 | 第46-51页 |
| ·双面抛光液PH值实验 | 第46-48页 |
| ·双面抛光液PH值实验设计 | 第46页 |
| ·实验的结果和分析 | 第46-48页 |
| ·表面活性剂实验 | 第48-50页 |
| ·实验设计及试验数据 | 第48-49页 |
| ·试验结果分析 | 第49-50页 |
| ·实验结论 | 第50-51页 |
| 6 结束语 | 第51-53页 |
| ·本文的工作总结 | 第51页 |
| ·有待进一步研究和解决的问题 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
