| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| ·课题背景 | 第8-9页 |
| ·聚酰亚胺杂化材料的研究现状 | 第9-12页 |
| ·等离子射流技术 | 第12-15页 |
| ·本课题的目的意义、方法 | 第15-17页 |
| 2 聚酰亚胺/纳米无机物杂化材料的合成方法 | 第17-26页 |
| ·聚酰亚胺的合成工艺 | 第17-18页 |
| ·纳米SiO_2的生产原理及改性 | 第18-19页 |
| ·聚酰亚胺/纳米无机物杂化材料复合材料的常用制备方法 | 第19-22页 |
| ·PI/纳米SiO_2复合材料的性能及其应用 | 第22-24页 |
| ·影响复合薄膜制备的因素 | 第24-26页 |
| 3 聚酰亚胺/改性纳米二氧化硅复合薄膜的制备工艺与分析测试 | 第26-37页 |
| ·实验原料及预处理 | 第26-27页 |
| ·纳米SiO_2颗粒的表面改性 | 第27-28页 |
| ·PI/SiO_2复合薄膜的制备工艺 | 第28-31页 |
| ·聚酰亚胺的热酰亚胺化反应 | 第31-33页 |
| ·聚酰亚胺/改性纳米二氧化硅复合薄膜的分析测试方法 | 第33-37页 |
| 4 结果与讨论 | 第37-52页 |
| ·纳米二氧化硅透射电镜(TEM)测试结果与分析 | 第37-38页 |
| ·纳米SiO_2表面元素含量分析─X光电子能谱仪(XPS) | 第38-40页 |
| ·PI/米SiO_2复合薄膜的红外光谱(FT-IR)结果分析 | 第40-41页 |
| ·PI/纳米SiO_2复合薄膜的场发射扫描电子显微镜(FESEM)测 试结果与分析 | 第41-43页 |
| ·PI/纳米SiO_2复合薄膜的扫描探针显微镜(SPM)分析 | 第43-44页 |
| ·PI/纳米SiO_2复合薄膜的热性能分析─TGA测试分析 | 第44-46页 |
| ·PI/纳米SiO_2复合薄膜的介电性能测试及分析 | 第46-49页 |
| ·PI/SiO_2复合薄膜的力学性能分析 | 第49-52页 |
| 5 结论与展望 | 第52-54页 |
| ·结论 | 第52-53页 |
| ·展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
