芯片自由流电泳系统的建立及表征
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-29页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·自由流电泳 | 第13-18页 |
| ·概念与特点 | 第13-14页 |
| ·原理 | 第14页 |
| ·分离模式 | 第14-16页 |
| ·自由区带电泳 | 第14-15页 |
| ·自由等速电泳 | 第15-16页 |
| ·自由等电聚焦电泳 | 第16页 |
| ·空间自由流电泳 | 第16-18页 |
| ·芯片自由流电泳 | 第18-24页 |
| ·简介 | 第18页 |
| ·芯片材料的选择 | 第18-20页 |
| ·芯片结构设计 | 第20-22页 |
| ·分离检测及染料性质 | 第22-24页 |
| ·芯片的表面处理 | 第24页 |
| ·抑制吸附问题 | 第24页 |
| ·抑制电渗流问题 | 第24页 |
| ·电泳中的电渗流 | 第24-27页 |
| ·电渗现象与电渗流 | 第25页 |
| ·电渗流的大小和方向 | 第25-26页 |
| ·电渗流的作用 | 第26页 |
| ·影响电渗流的因素 | 第26-27页 |
| ·自由流电泳的应用 | 第27-28页 |
| ·展望 | 第28-29页 |
| 第2章 ITO玻璃芯片上的FFE | 第29-44页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验部分 | 第29-33页 |
| ·材料与试剂 | 第29-30页 |
| ·仪器设备 | 第30页 |
| ·ITO玻璃芯片的制作 | 第30-32页 |
| ·ITO电极的刻蚀 | 第30-31页 |
| ·ITO电极的电镀 | 第31页 |
| ·ITO芯片的成型 | 第31-32页 |
| ·ITO玻璃芯片上的FFE | 第32页 |
| ·荧光成像系统 | 第32页 |
| ·FFE实验方法 | 第32页 |
| ·ITO芯片的表面处理 | 第32页 |
| ·ITO玻璃芯片的凝胶膜 | 第32-33页 |
| ·定位光聚合合成凝胶原理 | 第32-33页 |
| ·实验方法 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-43页 |
| ·芯片设计与制备 | 第33页 |
| ·芯片FZE分离 | 第33-35页 |
| ·分离效果及其影响因素 | 第35-39页 |
| ·支持电解质及其浓度的影响 | 第35-36页 |
| ·支持电解质pH值的影响 | 第36-37页 |
| ·支持电解质流量的影响 | 第37页 |
| ·电场强度的影响 | 第37-38页 |
| ·电泳电压和电流的关系 | 第38-39页 |
| ·芯片的表面修饰 | 第39-42页 |
| ·谱带扩散现象 | 第39页 |
| ·谱带收缩现象 | 第39-41页 |
| ·硅烷化处理的影响 | 第41-42页 |
| ·芯片上凝胶膜的作用 | 第42页 |
| ·芯片上三种荧光物质的分离 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第3章 玻璃自由流电泳芯片上的分离 | 第44-55页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·实验部分 | 第44-46页 |
| ·仪器设备 | 第44页 |
| ·试剂和材料 | 第44-45页 |
| ·玻璃芯片上的FFE分离 | 第45-46页 |
| ·玻璃芯片的制作 | 第45-46页 |
| ·实验方法 | 第46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-54页 |
| ·芯片设计 | 第46-48页 |
| ·分离效果及其影响因素 | 第48-53页 |
| ·支持电解质浓度的影响 | 第48-49页 |
| ·支持电解质pH值的影响 | 第49-50页 |
| ·支持电解质流量的影响 | 第50页 |
| ·电场强度的影响 | 第50-51页 |
| ·电泳电压和电流的关系 | 第51-52页 |
| ·流速的控制 | 第52-53页 |
| ·芯片上三种荧光物质的分离 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 芯片上的电渗流 | 第55-66页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·实验部分 | 第55-57页 |
| ·仪器与试剂 | 第55页 |
| ·玻璃芯片上EOF的测定 | 第55-57页 |
| ·CE上淌度的测定 | 第57页 |
| ·电渗流的抑制 | 第57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-65页 |
| ·玻璃芯片上的EOF | 第57-58页 |
| ·CE结果与结论 | 第58-60页 |
| ·计算淌度的方法 | 第58页 |
| ·不同浓度缓冲液下的淌度 | 第58-59页 |
| ·不同pH值缓冲液下的淌度 | 第59-60页 |
| ·电渗流与FFE上的现象 | 第60-64页 |
| ·出峰和分离轨迹对比 | 第60-61页 |
| ·支持电解质浓度的影响 | 第61-62页 |
| ·支持电解质pH值的影响 | 第62-63页 |
| ·添加剂的影响 | 第63-64页 |
| ·理论分析FFE中的电渗流 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第5章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 攻读学位论文期间发表的论文及获奖情况 | 第75页 |
