| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| ·纳米科学技术的概念及其涉及的领域 | 第11页 |
| ·纳米材料的基本概念及其分类 | 第11-12页 |
| ·纳米材料的基本性质 | 第12-15页 |
| ·小尺寸效应 | 第12页 |
| ·表面效应 | 第12-13页 |
| ·量子尺寸效应 | 第13-14页 |
| ·宏观量子隧道效应 | 第14页 |
| ·介电限域效应 | 第14-15页 |
| ·纳米发光材料的制备 | 第15-19页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第15-16页 |
| ·沉淀法 | 第16页 |
| ·燃烧法 | 第16-17页 |
| ·微乳液法 | 第17-18页 |
| ·水热法 | 第18页 |
| ·微波合成法 | 第18页 |
| ·喷雾热解法 | 第18-19页 |
| ·本论文主要立题依据、研究内容及意义 | 第19-21页 |
| ·立题依据 | 第19页 |
| ·研究内容 | 第19页 |
| ·研究意义 | 第19-21页 |
| 第2章 发光材料 | 第21-35页 |
| ·发光概述 | 第21-23页 |
| ·发光现象 | 第21页 |
| ·固体发光理论基础 | 第21-23页 |
| ·基质材料的选择 | 第23页 |
| ·纳米发光材料新的发光特性 | 第23-25页 |
| ·同成分的常规材料所不具有的新的发光现象 | 第24页 |
| ·光谱峰的红移或蓝移 | 第24页 |
| ·猝灭浓度的升高 | 第24-25页 |
| ·发光效率的提高和发光寿命的变化 | 第25页 |
| ·红外吸收带宽化 | 第25页 |
| ·发光材料种类 | 第25-28页 |
| ·光致发光材料 | 第25-26页 |
| ·电致发光材料 | 第26-27页 |
| ·阴极射线发光 | 第27页 |
| ·X射线发光材料 | 第27页 |
| ·放射线发光材料 | 第27-28页 |
| ·应力发光材料 | 第28页 |
| ·X射线激发发光的理论探讨 | 第28-35页 |
| ·X射线的产生及性质 | 第28-29页 |
| ·X射线激发发光机理 | 第29页 |
| ·X射线荧光粉的应用 | 第29-35页 |
| 第3章 掺铽荧光粉的合成实验和测试分析 | 第35-41页 |
| ·纳米Gd_2O_3:Tb~(3+)和Gd_2O_2S:Tb~(3+)发光材料的制备 | 第35-36页 |
| ·均相沉淀法反应过程及其原理 | 第35-36页 |
| ·对产物进一步煅烧和硫化 | 第36页 |
| ·反应原料和仪器设备 | 第36-38页 |
| ·原料 | 第36-37页 |
| ·仪器和设备 | 第37-38页 |
| ·性能测试仪器设备 | 第38页 |
| ·实验过程 | 第38-41页 |
| ·前驱体的制备 | 第38-39页 |
| ·样品的燃烧合成 | 第39-40页 |
| ·硫氧化物的制备 | 第40页 |
| ·样品性能测试分析 | 第40-41页 |
| 第4章 纳米Gd_2O_3:Tb~(3+)荧光粉的表征及发光特性研究 | 第41-55页 |
| ·引言 | 第41-42页 |
| ·实验结果与分析 | 第42-54页 |
| ·X-射线衍射分析(XRD) | 第42-44页 |
| ·透射电子显微镜分析(TEM) | 第44-46页 |
| ·光致发光光谱分析(PL) | 第46-49页 |
| ·X-射线激发发光光谱的测试(XEL) | 第49-52页 |
| ·红外光谱的分析与讨论(IR) | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 纳米Gd_2O_2S:Tb~(3+)荧光粉的表征及发光特性研究 | 第55-71页 |
| ·引言 | 第55-57页 |
| ·实验结果与分析 | 第57-69页 |
| ·X-射线衍射分析(XRD) | 第57-58页 |
| ·透射电子显微镜分析(TEM) | 第58-60页 |
| ·光致发光光谱分析(PL) | 第60-64页 |
| ·X射线激发发光光谱的测试(XEL) | 第64-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
| 研究生履历 | 第79页 |
