| 中文摘要 | 第1-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-14页 |
| 第二章 综述 | 第14-24页 |
| ·引言 | 第14-15页 |
| ·光子晶体的制备 | 第15-16页 |
| ·胶体晶体的制备和应用 | 第16-23页 |
| ·单分散SiO_2胶体颗粒成核和生长机理 | 第18-19页 |
| ·单分散SiO2胶体晶体的自组装 | 第19-22页 |
| ·特定力场的自组装 | 第19-20页 |
| ·垂直沉积组装 | 第20-21页 |
| ·过滤沉降组装 | 第21页 |
| ·静电力组装 | 第21-22页 |
| ·单分散二氧化硅胶体颗粒的制备方法 | 第22-23页 |
| ·经典St(o|¨)ber法 | 第22页 |
| ·种子法 | 第22页 |
| ·软模板法 | 第22-23页 |
| ·本课题研究目标、研究内容和拟解决的关键问题以及特色与创新之处 | 第23-24页 |
| ·研究目标 | 第23页 |
| ·研究内容 | 第23页 |
| ·拟解决的关键问题 | 第23页 |
| ·本论文的特色与创新之处 | 第23-24页 |
| 第三章 单分散二氧化硅胶体颗粒的制备与形成机理 | 第24-31页 |
| ·前言 | 第24页 |
| ·实验部分 | 第24-25页 |
| ·实验药品和仪器 | 第24-25页 |
| ·实验方法 | 第25页 |
| ·实验结果与讨论 | 第25-29页 |
| ·氨水浓度对二氧化硅胶体颗粒的尺寸的影响 | 第25-26页 |
| ·水的浓度对二氧化硅胶体颗粒的尺寸和尺寸分布的影响 | 第26-28页 |
| ·硅源浓度对二氧化硅胶体颗粒的尺寸的影响 | 第28-29页 |
| ·温度对二氧化硅胶体颗粒的尺寸的影响 | 第29页 |
| ·结论 | 第29-31页 |
| 第四章 种子法制取大的单分散二氧化硅胶体颗粒的研究 | 第31-43页 |
| ·前言 | 第31-32页 |
| ·理论上计算生长后颗粒的大小 | 第32页 |
| ·实验部分 | 第32-39页 |
| ·实验药品和仪器 | 第32页 |
| ·实验过程 | 第32-39页 |
| ·种子制备 | 第32-34页 |
| ·生长实验 | 第34-39页 |
| ·结果和讨论 | 第39-42页 |
| ·改变反应条件对颗粒的影响 | 第40-41页 |
| ·二次成核的影响条件 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第五章 不同催化剂对颗粒形成的影响 | 第43-52页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·实验部分 | 第44页 |
| ·实验药品和仪器 | 第44页 |
| ·实验方法 | 第44页 |
| ·体系加入不同催化剂 | 第44-48页 |
| ·不同催化剂对二氧化硅颗粒形貌的影响 | 第44-45页 |
| ·体系中pH与反应时间的变化 | 第45-47页 |
| ·体系电导率随时间的变化 | 第47-48页 |
| ·三甲胺对颗粒形成的影响 | 第48-50页 |
| ·三甲胺浓度的影响 | 第48-49页 |
| ·温度对颗粒尺寸的影响 | 第49-50页 |
| ·讨论 | 第50-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第六章 不同阴离子对二氧化硅胶体颗粒尺寸的影响 | 第52-60页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·实验部分 | 第52-53页 |
| ·实验药品和仪器 | 第52页 |
| ·实验过程 | 第52-53页 |
| ·实验结果和讨论 | 第53-59页 |
| ·未加入电解质时制备的颗粒 | 第53-54页 |
| ·阴离子对颗粒尺寸的影响 | 第54-55页 |
| ·电导率的测定 | 第55-58页 |
| ·Zeta电位 | 第58-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| 第七章 全文总结和展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 附录 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
