摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
第1章 绪论 | 第8-20页 |
·纳米技术与纳米材料 | 第8-10页 |
·纳米技术与纳米材料的基本概念 | 第8页 |
·纳米材料的基本性质 | 第8-9页 |
·纳米材料的常用制备方法 | 第9-10页 |
·纳米氧化铜研究现状 | 第10-17页 |
·氧化铜的结构 | 第10页 |
·纳米氧化铜的制备技术 | 第10-13页 |
·纳米氧化铜的应用 | 第13-17页 |
·纳米复合材料的研究及其应用 | 第17-18页 |
·本课题的目的和意义 | 第18页 |
·本课题的创新之处 | 第18-20页 |
第2章 配位氧化均匀沉淀法制备纳米氧化铜材料的基本原理 | 第20-25页 |
·配位氧化均匀沉淀法原理 | 第20页 |
·配位氧化反应原理 | 第20页 |
·配位均匀沉淀法原理 | 第20页 |
·配合物与沉淀剂离子共存及沉淀析出的理论分析 | 第20-25页 |
·配位氧化均匀沉淀法合成纳米氧化铜 | 第20-23页 |
·配位氧化均匀共沉淀法合成银/氧化铜纳米复合材料 | 第23-25页 |
第3章 配位氧化均匀沉淀法制备CuO纳米材料 | 第25-38页 |
·实验药品和仪器 | 第25-26页 |
·实验药品 | 第25页 |
·实验仪器 | 第25-26页 |
·以铜丝为铜源制备CuO | 第26-33页 |
·CuO纳米前驱物的制备 | 第26页 |
·前驱物生成的影响因素 | 第26-28页 |
·前驱物的表征 | 第28-30页 |
·由前驱物煅烧得CuO纳米材料 | 第30页 |
·CuO纳米材料的表征 | 第30-33页 |
·以硫酸铜为铜源制备CuO | 第33-37页 |
·实验 | 第33页 |
·前驱物生成的影响因素 | 第33-34页 |
·表征 | 第34-37页 |
·本章小结 | 第37-38页 |
第4章 配位氧化均匀共沉淀法制备Ag/CuO复合纳米材料 | 第38-43页 |
·实验部分 | 第38-39页 |
·试剂、仪器与测试 | 第38页 |
·Ag/CuO混合前驱物的制备 | 第38页 |
·产品的制备 | 第38-39页 |
·结果与讨论 | 第39-42页 |
·产品的表征 | 第39-42页 |
·前驱物生成的影响因素 | 第42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
第5章 产品的催化性能 | 第43-51页 |
·对过氧化氢分解的催化 | 第43-47页 |
·催化剂的制备 | 第43页 |
·实验方法 | 第43-44页 |
·结果与讨论 | 第44-47页 |
·催化苯酚羟基化 | 第47-50页 |
·催化剂的制备 | 第47页 |
·实验方法 | 第47-48页 |
·结果与讨论 | 第48-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
结论 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第59页 |