| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·纳米材料简介 | 第10-13页 |
| ·纳米材料的定义和分类 | 第10-11页 |
| ·纳米材料的物理性质 | 第11-13页 |
| ·模板法制备纳米材料 | 第13-18页 |
| ·模板法及其优点 | 第13-15页 |
| ·模板合成方法中常用的模板 | 第15-16页 |
| ·常用的模板合成方法 | 第16-18页 |
| ·多孔阳极氧化铝模板的研究及发展现状 | 第18-25页 |
| ·多孔阳极氧化铝薄膜的结构模型 | 第18-20页 |
| ·阳极氧化膜的形成机理 | 第20-25页 |
| ·利用阳极氧化铝模板电化学沉积合成纳米材料 | 第25-30页 |
| ·电沉积制备纳米材料的工艺过程 | 第26页 |
| ·电沉积制备纳米材料的方法 | 第26-27页 |
| ·电沉积制备纳米材料的应用 | 第27-30页 |
| 第二章 立题依据和研究内容 | 第30-33页 |
| ·立题依据 | 第30-31页 |
| ·研究内容 | 第31-33页 |
| 第三章 阳极氧化铝模板的制备与表征 | 第33-42页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·实验过程 | 第33-38页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第33-34页 |
| ·实验方法 | 第34-38页 |
| ·实验观察 | 第38页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第38-41页 |
| ·扫描电镜(SEM)观察与分析 | 第38-39页 |
| ·高温退火对阳极氧化铝膜有序性的影响 | 第39-40页 |
| ·二次氧化对阳极氧化铝膜有序性的影响 | 第40-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 第四章 电沉积制备铁纳米线 | 第42-47页 |
| ·电化学沉积原理分析 | 第42页 |
| ·直流电沉积制备铁纳米线 | 第42-44页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第44-46页 |
| ·铁纳米线的X射线分析 | 第44-45页 |
| ·铁纳米线的扫描电镜分析 | 第45页 |
| ·铁纳米线的磁滞回线 | 第45-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 第五章 讨论 | 第47-57页 |
| ·制备工艺对阳极氧化铝膜参数和有序性的影响 | 第47-51页 |
| ·制备工艺对阳极氧化铝膜厚的影响 | 第47-49页 |
| ·制备工艺对阳极氧化铝膜孔径、孔密度和有序性的影响 | 第49-51页 |
| ·纳米线生长的影响因素 | 第51-54页 |
| ·纳米线直径和阳极氧化电压的关系 | 第51-52页 |
| ·纳米线直径和氧化铝模板制备温度的关系 | 第52-53页 |
| ·纳米线的生长时间与沉积电压的关系 | 第53-54页 |
| ·纳米线的长度和沉积时间的关系 | 第54页 |
| ·纳米线形状和晶粒对磁性能的影响 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第六章 纳米线阵列与磁存储领域的发展 | 第57-66页 |
| ·概述 | 第57-59页 |
| ·磁光存储简介 | 第59页 |
| ·短波长磁光存储 | 第59-61页 |
| ·稀土-过渡族合金(RE-TM)薄膜作短波长磁光存储介质 | 第60-61页 |
| ·新型短波长磁光存储介质 | 第61页 |
| ·磁光超分辨近场结构存储技术 | 第61-63页 |
| ·Super-RENS的原理 | 第62页 |
| ·Super-RENS在磁光存储中的应用 | 第62-63页 |
| ·混合记录技术 | 第63-65页 |
| ·混合记录的基本原理 | 第63页 |
| ·混合记录克服磁光和磁存储缺陷的机理 | 第63-64页 |
| ·混合记录介质 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 全文总结 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 在学期间发表的学术论文 | 第75页 |