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Co、Al2O3纳米薄膜表面形貌与生长机制关系的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第一章 绪论第9-20页
 §1-1 研究背景与意义第9-10页
 §1-2 纳米和纳米薄膜材料第10-12页
  1-2-1 纳米材料概述第10页
  1-2-2 纳米薄膜材料概述第10-12页
 §1-3 Co、Al_2O_3 薄膜的性质及用途第12-13页
 §1-4 Co/Al_2O_3/Co 纳米薄膜研究的科学意义、国内外现状及进展第13-15页
  1-4-1 纳米薄膜研究的科学意义第13-14页
  1-4-2 纳米薄膜研究的现状第14-15页
  1-4-3 纳米薄膜生长方面的研究进展第15页
 §1-5 Co、Al_2O_3 纳米薄膜制备技术概述第15-16页
 §1-6 薄膜厚度与薄膜表面粗糙度第16-18页
  1-6-1 薄膜厚度第16-17页
  1-6-2 薄膜表面粗糙度第17-18页
 §1-7 本论文的研究目的和研究重点第18-20页
第二章 Co、Al_2O_3纳米薄膜的制备及表征方法第20-28页
 §2-1 离子束溅射基本原理第20-22页
 §2-2 薄膜的制备第22-23页
  2-2-1 薄膜沉积系统第22页
  2-2-2 薄膜沉积过程第22-23页
  2-2-3 薄膜基片处理方法第23页
  2-2-4 薄膜厚度样品的制备第23页
 §2-3 薄膜特性的表征方法第23-28页
  2-3-1 薄膜表面形貌的表征第24页
  2-3-2 薄膜微观结构的表征第24-25页
  2-3-3 薄膜的磁学性能表征第25-27页
  2-3-4 薄膜成分的表征第27-28页
第三章 Co 在 Si 基片表面的形核过程及生长机制第28-48页
 §3-1 Co 薄膜表面形貌演化的研究第28-31页
  3-1-1 Co 薄膜的拓扑形貌分析第28页
  3-1-2 Co 薄膜粗糙度分析第28-30页
  3-1-3 Co 薄膜的平均厚度分析第30-31页
 §3-2 Co 薄膜表面形貌演化的动力学标度分析第31-33页
 §3-3 Co 薄膜表面二维形貌的演化第33-35页
 §3-4 Co 薄膜的峰密度分析第35页
 §3-5 Co 薄膜微观结构分析第35-38页
  3-5-1 Co 薄膜的X 射线衍射分析第35-37页
  3-5-2 Co 薄膜的掠入射衍射分析第37-38页
 §3-6 Co 薄膜成分分析第38-44页
  3-6-1 X 射线光电子能谱仪第38-39页
  3-6-2 X 射线光电子谱图拟合步骤第39-40页
  3-6-3 Co 薄膜的X 射线光电子谱图分析第40-44页
 §3-7 Co 薄膜的磁电阻特性分析第44-46页
  3-7-1 Co 薄膜的磁滞回线分析第44-45页
  3-7-2 Co 薄膜的磁电阻分析第45-46页
 §3-8 本章小结第46-48页
第四章 Al_2O_3在 Si 基片表面的形核过程及生长机制第48-59页
 §4-1 Al_2O_3 薄膜表面形貌演化的研究第48-51页
  4-1-1 Al_2O_3 薄膜的拓扑形貌分析第48-50页
  4-1-2 Al_2O_3 薄膜的粗糙度分析第50页
  4-1-3 薄膜的平均厚度分析第50-51页
 §4-2 Al_2O_3 薄膜表面形貌演化的动力学标度分析第51-52页
 §4-3 Al_2O_3 薄膜二维表面形貌的演化与分析第52-54页
  4-3-1 Al_2O_3 薄膜的二维形貌演化第52-54页
  4-3-2 Al_2O_3 薄膜的峰密度分析第54页
 §4-4 Al_2O_3 薄膜微观结构分析第54-55页
  4-4-1 Al_2O_3 薄膜的X 射线衍射分析第54-55页
  4-4-2 Al_2O_3 掠入射衍射分析第55页
 §4-5 Al_2O_3 薄膜成分分析第55-58页
  4-5-1 定性分析第56-57页
  4-5-2 半定量分析第57-58页
 §4-6 本章小结第58-59页
第五章 退火处理对纳米薄膜的影响第59-65页
 §5-1 退火后纳米薄膜的表面形貌分析第59-61页
  5-1-1 Co 纳米薄膜的表面形貌第59-60页
  5-1-2 Al_2O_3 纳米薄膜的表面形貌第60-61页
 §5-2 退火后纳米薄膜的微观结构第61-63页
  5-2-1 Co 纳米薄膜的微观结构第61-62页
  5-2-2 Al_2O_3 纳米薄膜的微观结构第62-63页
 §5-3 退火后Co 薄膜的磁学性能第63-64页
 §5-4 本章小结第64-65页
第六章 结论第65-66页
参考文献第66-69页
致谢第69-70页
攻读学位期间所取得的相关科研成果第70页

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