| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-18页 |
| ·ZnO 薄膜的基本性质 | 第9-12页 |
| ·ZnO 薄膜的晶体结构和能带结构 | 第9-11页 |
| ·ZnO 薄膜的光电性质 | 第11页 |
| ·ZnO 薄膜的热电性质 | 第11-12页 |
| ·ZnO 薄膜的其它性质 | 第12页 |
| ·ZnO 薄膜的制备方法 | 第12-14页 |
| ·ZnO 薄膜的应用 | 第14-16页 |
| ·ZnO:In 薄膜的研究进展 | 第16-17页 |
| ·本文的研究意义、研究内容和创新点 | 第17-18页 |
| 2 ZnO:In 薄膜的制备及检测方法 | 第18-29页 |
| ·射频磁控溅射方法 | 第18-20页 |
| ·ZnO:In 薄膜的制备过程 | 第20-23页 |
| ·射频磁控溅射装置 | 第20-21页 |
| ·实验材料 | 第21页 |
| ·ZnO:In 薄膜的沉积过程 | 第21-22页 |
| ·ZnO:In 薄膜的制备条件 | 第22页 |
| ·ZnO:In 薄膜的退火处理 | 第22-23页 |
| ·ZnO 薄膜的检测方法 | 第23-29页 |
| ·薄膜晶体结构测试（XRD） | 第23-24页 |
| ·薄膜表面形貌测试 | 第24-25页 |
| ·薄膜成分及化学态分析（XPS） | 第25-26页 |
| ·薄膜透射光谱测试 | 第26页 |
| ·薄膜光致发光性能测试（PL） | 第26页 |
| ·薄膜厚度及HALL 测试 | 第26-29页 |
| 3 ZnO:In 薄膜的结构和电学性能 | 第29-44页 |
| ·ZnO:In 薄膜的导电机制 | 第29页 |
| ·In 掺杂浓度对ZnO:In 薄膜结构和电学性能的影响 | 第29-35页 |
| ·In 掺杂浓度对薄膜结构和元素化学态的影响 | 第30-33页 |
| ·In 掺杂浓度对薄膜表面形貌的影响 | 第33-34页 |
| ·In 掺杂浓度对薄膜电学性能的影响 | 第34-35页 |
| ·衬底温度对ZnO:In 薄膜结构和电学性能的影响 | 第35-39页 |
| ·衬底温度对薄膜结构的影响 | 第35-37页 |
| ·衬底温度对薄膜表面形貌的影响 | 第37-38页 |
| ·衬底温度对薄膜电学性能的影响 | 第38-39页 |
| ·溅射压强对ZnO:In 薄膜结构和电学性能的影响 | 第39-40页 |
| ·溅射压强对薄膜结构的影响 | 第39-40页 |
| ·溅射压强对薄膜电学性能的影响 | 第40页 |
| ·退火温度对ZnO:In 薄膜结构的影响 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 4 ZnO:In 薄膜的光学性能 | 第44-51页 |
| ·ZnO:In 薄膜的紫外可见透射光谱 | 第44-45页 |
| ·In 掺杂浓度对薄膜光学性能的影响 | 第45-46页 |
| ·衬底温度对薄膜光学性能的影响 | 第46-47页 |
| ·溅射压强对薄膜光学性能的影响 | 第47-48页 |
| ·退火温度对薄膜光学性能的影响 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 5 结论与展望 | 第51-53页 |
| ·主要结论 | 第51-52页 |
| ·后续工作与展望 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 附录 | 第59-60页 |
| A 作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第59-60页 |
| B 作者在攻读硕士学位期间参加的科研项目及得奖情况 | 第60页 |
