摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第1章 绪论 | 第11-29页 |
·纳米复合材料的定义 | 第11页 |
·高分子导电复合材料的研究概况 | 第11-23页 |
·高分子导电复合材料应用 | 第12-14页 |
·导电机理 | 第14-18页 |
·导电填料的分类 | 第18-23页 |
·纳米颗粒的分散 | 第23-26页 |
·物理法分散 | 第23-25页 |
·化学法分散 | 第25-26页 |
·高分子导电复合材料的制备 | 第26-27页 |
·熔融混合法 | 第26页 |
·原位聚合法 | 第26-27页 |
·溶液混合法 | 第27页 |
·本课题的目的和意义 | 第27-29页 |
第2章 实验部分 | 第29-36页 |
·药品与仪器 | 第29-30页 |
·实验药品 | 第29-30页 |
·实验仪器 | 第30页 |
·实验过程 | 第30-33页 |
·纳米石墨片/树脂复合导电膜的制备 | 第30-32页 |
·炭黑/树脂复合导电膜的制备 | 第32页 |
·碳纳米管/树脂复合导电膜的制备 | 第32页 |
·纳米石墨片/炭黑/树脂复合导电膜的制备 | 第32-33页 |
·纳米石墨片/碳纳米管/树脂复合导电膜的制备 | 第33页 |
·性能测试与表征 | 第33-34页 |
·表面电阻的测量 | 第33页 |
·扫描电镜表征 | 第33-34页 |
·原子力显微镜表征 | 第34页 |
·光学显微镜表征 | 第34页 |
·X-射线衍射表征 | 第34页 |
·红外表征 | 第34页 |
·本章小结 | 第34-36页 |
第3章 制备工艺对导电膜性能的影响研究 | 第36-55页 |
·引言 | 第36-37页 |
·制备纳米石墨片的机理分析 | 第37-43页 |
·GO原位还原萃取工艺制备GNP的机理分析 | 第37-41页 |
·EG超声工艺制备GNP的机理分析 | 第41-43页 |
·制备工艺对纳米石墨片微观结构的影响 | 第43-47页 |
·扫描电镜分析 | 第43-45页 |
·纳米石墨片表面的基团分析 | 第45-46页 |
·纳米石墨片的XRD分析 | 第46-47页 |
·制备工艺对纳米石墨片分散性的影响 | 第47-49页 |
·制备工艺对复合膜导电性能的影响 | 第49-54页 |
·本章小结 | 第54-55页 |
第4章 填料几何形状对导电膜性能的影响研究 | 第55-67页 |
·引言 | 第55页 |
·碳系填料CB、CNTs的微观结构 | 第55-56页 |
·不同几何形状填料分散行为的研究 | 第56-59页 |
·不同几何形状填料复合膜导电性能的研究 | 第59-60页 |
·不同几何形状填料之间的协同作用研究 | 第60-65页 |
·GO-GNP/CB/树脂复合膜的导电性能研究 | 第61-63页 |
·GO-GNP/CNTs/树脂复合膜导电性能的研究 | 第63-65页 |
·本章小结 | 第65-67页 |
结论 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-75页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第75-76页 |
致谢 | 第76页 |