| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·真空开关的国内外发展概况和现状 | 第10-12页 |
| ·真空灭弧室的基本结构和工作原理 | 第12-13页 |
| ·本论文的研究背景 | 第13-14页 |
| ·本论文的研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 纵向磁场对真空灭弧室开断性能的影响 | 第16-31页 |
| ·真空间隙的击穿机理概述 | 第16-17页 |
| ·电子发射引起的欲击穿机理——场电子发射理论 | 第16页 |
| ·阳极或阴极引起的击穿机理 | 第16-17页 |
| ·微粒引起的击穿机理——微粒说 | 第17页 |
| ·真空电弧现象与形态 | 第17-20页 |
| ·真空电弧的阴极现象 | 第17-18页 |
| ·真空电弧的阳极现象 | 第18页 |
| ·真空电弧的形态 | 第18-19页 |
| ·弧后介质的恢复 | 第19-20页 |
| ·真空电弧的控制技术 | 第20-22页 |
| ·横向磁场触头结构 | 第20-21页 |
| ·纵向磁场触头结构 | 第21-22页 |
| ·纵向磁场对真空电弧的控制 | 第22-31页 |
| ·纵向磁场与电弧形态 | 第22-23页 |
| ·纵向磁场对真空电弧的作用 | 第23-26页 |
| ·纵向磁场对开断性能的影响 | 第26-28页 |
| ·纵向磁场触头结构与剩余磁场的关系 | 第28-31页 |
| 第三章 一种具有新型纵向磁场触头结构的真空灭弧室 | 第31-40页 |
| ·新型不对称线圈式纵向磁场触头结构的设计原则 | 第31-34页 |
| ·对称线圈纵向磁场触头结构的特点 | 第31-32页 |
| ·新型不对称1/2匝线圈式纵向磁场触头结构的设计思想 | 第32-34页 |
| ·触头材料的选择 | 第34-36页 |
| ·绝缘外壳的设计原则 | 第36-37页 |
| ·主屏蔽罩的设计原则 | 第37-38页 |
| ·波纹管的设计原则 | 第38-39页 |
| ·导电系统设计原则 | 第39-40页 |
| 第四章 新型不对称1/2匝线圈触头结构的纵向磁场与涡流场的仿真与分析 | 第40-63页 |
| ·ANSYS软件包介绍 | 第40页 |
| ·三维磁场的数学模型 | 第40-41页 |
| ·新型不对称1/2线圈纵向磁场触头结构的三维分析模型 | 第41-43页 |
| ·新型不对称1/2匝线圈结构的纵向磁场与涡流场的仿真分析 | 第43-62页 |
| ·电流峰值时不对称结构与对称结构纵向磁场的分析比较 | 第43-52页 |
| ·电流过零时不对称结构与对称结构纵向磁场及涡流场的分析比较 | 第52-61页 |
| ·新型不对称结构的设计创新点分析 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 新型不对称1/3匝线圈触头结构的纵向磁场计算与分析 | 第63-74页 |
| ·新型不对称1/3匝线圈的三维分析模型的建立 | 第63页 |
| ·新型不对称1/3匝线圈的纵向磁场计算 | 第63-72页 |
| ·纵向磁场在静触头面上的分布 | 第63-66页 |
| ·纵向磁场在开距中心平面上的分布 | 第66-69页 |
| ·纵向磁场在动触头面上的分布 | 第69-72页 |
| ·对称1/2匝与新型不对称1/2与1/3匝线圈结构比较 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 第六章 结论 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
| 在学研究成果 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
