摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-5页 |
目录 | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-24页 |
·透波材料概述 | 第8-13页 |
·透波材料简介 | 第8-9页 |
·透波材料研究现状 | 第9-12页 |
·透波材料发展趋势 | 第12-13页 |
·氮化硅概述 | 第13-18页 |
·氮化硅的晶体结构 | 第13-15页 |
·氮化硅陶瓷的制备工艺 | 第15-18页 |
·氮化硅陶瓷的应用 | 第18页 |
·多孔陶瓷概述 | 第18-22页 |
·多孔陶瓷的种类 | 第19页 |
·多孔陶瓷的制备工艺 | 第19-21页 |
·多孔陶瓷的应用 | 第21-22页 |
·本论文研究工作 | 第22-24页 |
·课题来源及研究目的 | 第22-23页 |
·研究内容 | 第23页 |
·本研究创新点 | 第23-24页 |
第二章 实验原料及性能测试方法 | 第24-30页 |
·试验原料 | 第24-25页 |
·Si_3N_4粉料 | 第24页 |
·BN粉料 | 第24页 |
·La_2O_3、Sm_2O_3粉料 | 第24页 |
·其他原料 | 第24-25页 |
·试验所需仪器设备 | 第25页 |
·试样制备 | 第25-26页 |
·陶瓷复合粉体的制备 | 第25页 |
·坯体成型 | 第25-26页 |
·烧结 | 第26页 |
·性能分析测试方法 | 第26-30页 |
·密度及气孔率的测定 | 第26-27页 |
·抗弯强度的测定 | 第27-28页 |
·断裂韧性的测定 | 第28-29页 |
·显微结构分析 | 第29页 |
·介电性能测试 | 第29页 |
·热学性能测试 | 第29-30页 |
第三章 氮化硅陶瓷材料烧结工艺理论基础 | 第30-39页 |
·氮化硅的烧结动力学 | 第30-33页 |
·α-Si_3N_4的烧结动力学 | 第31-32页 |
·β-Si_3N_4的烧结动力学 | 第32页 |
·烧结制度 | 第32-33页 |
·氮化硅烧结热力学 | 第33-36页 |
·理论基础 | 第33-34页 |
·Si-N-O系统和Si_3N_4氧化热力学 | 第34-35页 |
·B-N-O系统和BN材料氧化热力学 | 第35-36页 |
·烧结气氛的确定 | 第36页 |
·制备工艺的确定 | 第36-37页 |
·氮化硅晶粒原位异向生长机理 | 第37-38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
第四章 添加稀土氧化物制备多孔氮化硅 | 第39-50页 |
·烧结助剂的选择 | 第39-40页 |
·试样制备及烧结 | 第40页 |
·烧结助剂含量对材料性能的影响 | 第40-47页 |
·烧结助剂含量对材料气孔率的影响 | 第40-41页 |
·烧结助剂含量对材料抗弯强度的影响 | 第41-42页 |
·烧结助剂含量对材料韧性的影响 | 第42-44页 |
·烧结助剂含量对材料介电常数的影响 | 第44-46页 |
·烧结助剂含量对材料微观结构的影响 | 第46-47页 |
·不同烧结助剂对材料的影响 | 第47-49页 |
·不同烧结助剂对材料性能的影响 | 第47-48页 |
·不同烧结助剂多孔Si_3N_4的微观结构分析 | 第48-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
第五章 Si-B-O-N系氮化硅基透波材料的制备及性能研究 | 第50-58页 |
·前言 | 第50页 |
·试样制备及烧结 | 第50-51页 |
·结果与讨论 | 第51-57页 |
·氮化硼对复合材料密度的影响 | 第51页 |
·氮化硼对复合材料气孔率的影响 | 第51-52页 |
·氮化硼对复合材料抗弯强度的影响 | 第52-53页 |
·氮化硼对复合材料断裂韧性的影响 | 第53页 |
·氮化硼对复合材料热学性能的影响 | 第53-55页 |
·氮化硼对复合材料介电性能的影响 | 第55-56页 |
·氮化硼对复合材料显微结构的影响 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
第六章 结论 | 第58-59页 |
致谢 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-64页 |
攻读硕士学位期间发表论文情况 | 第64页 |