摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第1章 前言 | 第10-23页 |
·选题背景 | 第10-11页 |
·氮氧化合物的危害 | 第10页 |
·我国日益严格的氮氧化合物排放标准 | 第10-11页 |
·氮氧化合物排放控制技术概况 | 第11-14页 |
·氮氧化合物控制技术比较 | 第11-13页 |
·NO_x 的选择性催化还原(SCR)技术及应用 | 第13-14页 |
·SCR 催化剂研究进展 | 第14-16页 |
·NH_3-SCR 催化剂 | 第14-16页 |
·HC-SCR 催化剂 | 第16页 |
·NH_3-SCR 反应机理研究进展 | 第16-20页 |
·基于V-W-Ti 催化剂的NH_3-SCR 反应机理 | 第16-19页 |
·基于其他催化剂的NH_3-SCR 反应机理 | 第19-20页 |
·论文主要研究内容 | 第20-23页 |
·论文研究的意义 | 第20-21页 |
·主要研究内容 | 第21页 |
·技术路线 | 第21-23页 |
第2章 催化剂制备及表征方法 | 第23-30页 |
·试剂 | 第23页 |
·催化剂的制备 | 第23-24页 |
·催化剂表征 | 第24-30页 |
·NH_3-SCR 活性测试 | 第24-26页 |
·NH_3/NO 的氧化活性表征 | 第26页 |
·吸附性能分析 | 第26-27页 |
·氧化还原性能表征 | 第27页 |
·结构分析 | 第27-30页 |
第3章 催化剂的组分及制备工艺优化 | 第30-45页 |
·实验设计 | 第30-31页 |
·催化剂配方筛选 | 第31-35页 |
·CuO_x-ZrO_2 催化剂的铜含量筛选 | 第31页 |
·CuO_x/WO_x-ZrO_2 催化剂中钨含量筛选 | 第31-33页 |
·CuO_x/WO_x-ZrO_2 催化剂中铜含量筛选 | 第33-34页 |
·与商用催化剂的性能比较 | 第34-35页 |
·WO_x-ZrO_2 载体的焙烧温度优化 | 第35-39页 |
·结构分析 | 第35-37页 |
·氧化还原性能 | 第37-38页 |
·SCR 活性 | 第38-39页 |
·催化剂的焙烧温度优化 | 第39-43页 |
·结构分析 | 第39-41页 |
·氧化还原性能 | 第41-42页 |
·SCR 催化活性 | 第42-43页 |
·预处理方式对催化剂活性的影响 | 第43页 |
·本章小结 | 第43-45页 |
第4章 铜组分在催化剂低温NH_3-SCR 性能中的作用 | 第45-64页 |
·实验设计 | 第45页 |
·催化剂的结构与表面性质 | 第45-50页 |
·催化剂的氧化还原性能 | 第50-54页 |
·H_2 程序升温氧化 | 第50页 |
·NH_3 程序升温氧化 | 第50-52页 |
·NO 程序升温氧化 | 第52-54页 |
·催化剂的吸附性能及吸附过程 | 第54-61页 |
·NH_3 吸附性能 | 第55-58页 |
·NO 吸附性能 | 第58-61页 |
·铜物种的作用分析 | 第61-63页 |
·表面铜物种的状态 | 第61-62页 |
·CuO_x/WO_x-ZrO_2 催化剂中铜物种的作用分析 | 第62-63页 |
·本章小结 | 第63-64页 |
第5章 钨组分对拓宽催化剂温度窗口的影响 | 第64-83页 |
·实验设计 | 第64页 |
·催化剂的结构与表面性质 | 第64-70页 |
·催化剂的氧化还原性能 | 第70-74页 |
·H_2 程序升温氧化 | 第70页 |
·NH_3 程序升温氧化 | 第70-72页 |
·NO 程序升温氧化 | 第72-74页 |
·催化剂的吸附性能及吸附过程 | 第74-78页 |
·NH_3 吸附性能 | 第74-76页 |
·NO 吸附性能 | 第76-78页 |
·铜钨相互作用分析 | 第78-81页 |
·CO 吸附分析 | 第78-79页 |
·钨物种在低温和高温SCR 反应中的作用 | 第79-81页 |
·本章小结 | 第81-83页 |
第6章 NH_3-SCR 机理研究 | 第83-99页 |
·实验设计 | 第83页 |
·催化剂表面NH_3+NO+O_2 反应的分析 | 第83-85页 |
·NH_3-SCR 反应模型 | 第85-86页 |
·动力学验证 | 第86-98页 |
·低温反应动力学分析 | 第87-91页 |
·高温反应动力学分析 | 第91-94页 |
·暂态反应表征 | 第94-96页 |
·催化剂结构与催化反应的构效关系 | 第96-98页 |
·本章小结 | 第98-99页 |
第7章 结论与展望 | 第99-101页 |
·主要结论 | 第99-100页 |
·展望 | 第100-101页 |
参考文献 | 第101-112页 |
致谢 | 第112-113页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第113-114页 |