| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·镁合金的应用与发展 | 第10-12页 |
| ·镁和镁合金的特性 | 第10页 |
| ·镁合金的应用 | 第10-11页 |
| ·镁合金表面处理现状 | 第11-12页 |
| ·微弧氧化技术 | 第12-16页 |
| ·微弧氧化技术的发展历史 | 第12-13页 |
| ·微弧氧化技术的研究现状 | 第13-14页 |
| ·微弧氧化机理及特点 | 第14-15页 |
| ·体系发热对微弧氧化的影响 | 第15-16页 |
| ·镁合金微弧氧化工艺 | 第16-19页 |
| ·镁合金微弧氧化膜的结构及形成 | 第16-17页 |
| ·影响镁合金微弧氧化的因素 | 第17-19页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第19-20页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第20-21页 |
| 第2章 试验设备及测试分析方法 | 第21-26页 |
| ·试验设备 | 第21-22页 |
| ·微弧氧化设备 | 第21页 |
| ·电导率测试装置 | 第21-22页 |
| ·其他设备 | 第22页 |
| ·试验材料 | 第22页 |
| ·试验工艺流程 | 第22-23页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜性能分析方法 | 第23-24页 |
| ·膜层厚度 | 第23页 |
| ·膜层组成成分 | 第23页 |
| ·膜层外观形貌 | 第23页 |
| ·白色沉淀物成分 | 第23-24页 |
| ·溶液温度 | 第24页 |
| ·膜层致密性 | 第24页 |
| ·镁合金微弧氧化发热的初步探讨 | 第24-26页 |
| ·引起体系发热的原因 | 第24页 |
| ·热损耗率的定义 | 第24-26页 |
| 第3章 低热损耗AZ91D镁合金微弧氧化工艺的研究 | 第26-56页 |
| ·控制模式对热损耗的影响 | 第26-33页 |
| ·恒流和恒压模式的影响 | 第26-30页 |
| ·电压调节模式的影响 | 第30-33页 |
| ·电流密度对热损耗的影响 | 第33-35页 |
| ·频率对热损耗的影响 | 第35-36页 |
| ·反应时间对热损耗的影响 | 第36-38页 |
| ·电解液老化与热损耗的关系 | 第38-46页 |
| ·溶液重复使用次数与电导率的关系 | 第39页 |
| ·溶液重复使用次数与热损耗的关系 | 第39-41页 |
| ·溶液重复使用对膜层表面形貌和致密性的影响 | 第41-42页 |
| ·溶液重复使用对膜层宏观质量的影响 | 第42-43页 |
| ·白色沉淀物对热损耗的影响 | 第43-46页 |
| ·处理液成分及浓度对热损耗的影响 | 第46-54页 |
| ·硅酸盐体系中添加剂的影响 | 第46-49页 |
| ·硅酸盐体系中NaOH对热损耗的影响 | 第49-51页 |
| ·不同体系主反应物浓度对热损耗的影响 | 第51-54页 |
| ·低热损耗镁合金微弧氧化膜相组成分析 | 第54-56页 |
| 第4章 低热损耗微弧氧化设备和冷却系统的制备 | 第56-58页 |
| ·低能耗微弧氧化设备及冷却系统的整体布局图 | 第56-57页 |
| ·微弧氧化设备及冷却系统的装配图 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第66页 |