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SiAlON纳米带的气压合成及其性能研究

摘要第1-6页
Abstract第6-14页
第1章 绪论第14-33页
   ·引言第14-15页
   ·纳米材料的特性第15-19页
     ·纳米材料的电学性能第16-17页
     ·纳米材料的光学性能第17-18页
     ·纳米材料的力学性能第18-19页
   ·一维纳米结构的生长机理第19-22页
     ·气液固(VLS)机制第20页
     ·气固(VS)生长机制第20-22页
   ·一维Si_3N_4 纳米材料的研究现状第22-25页
     ·一维Si_3N_4 纳米材料的性能第22-23页
     ·一维Si_3N_4 纳米材料的制备第23-25页
   ·一维Sialon 纳米材料的研究现状第25-31页
     ·Sialon 的基本结构第25-29页
     ·一维Sialon 纳米材料的合成第29-31页
   ·研究目的及主要内容第31-33页
     ·研究目的第31页
     ·创新点第31-32页
     ·研究内容第32-33页
第2章 试验材料及研究方法第33-41页
   ·原材料及仪器第33-35页
     ·主要原料第33-34页
     ·仪器设备第34-35页
   ·先驱体性质及成分分析第35-38页
     ·红外光谱分析第35页
     ·差热-热重分析第35-36页
     ·X-射线电子能谱(XPS)分析第36-37页
     ·交联体热分解第37页
     ·先驱体物相分析第37页
     ·粉末的透射电镜(TEM)形貌观察第37-38页
   ·准一维纳米材料的表征与性能测试第38-41页
     ·扫描电镜第38-39页
     ·透射电镜第39页
     ·光学性能测试第39-40页
     ·电学性能测试第40-41页
第3章 SiONCH-Al先驱体的制备及表征第41-55页
   ·引言第41页
   ·SiONCH 凝胶的合成方案设计第41-44页
   ·SiONCH-Al 先驱体的制备工艺第44-46页
   ·实验结果及分析第46-51页
     ·SiONCH-Al 先驱体的交联反应第46-47页
     ·SiONCH-Al 先驱体的组成与结构第47-50页
     ·SiONCH-Al 先驱体粉末SEM 和XRD 分析第50-51页
   ·SiONCH-Al 先驱体的热解第51-54页
   ·本章小结第54-55页
第4章 一维Sialon纳米带的合成与表征第55-85页
   ·引言第55-56页
   ·计算设计原理第56-61页
     ·平衡常数第56-58页
     ·气压对相平衡的影响第58-61页
   ·Sialon 纳米带的合成第61-70页
     ·合成工艺第61-64页
     ·典型Sialon 纳米带的表征第64-70页
   ·反应条件对产物的影响第70-81页
     ·热处理温度和保温时间的影响第70-76页
     ·原料配比对相结构的影响第76-78页
     ·气氛压力的影响第78-81页
   ·大尺度合成Sialon 纳米带工艺设计第81-84页
   ·本章小结第84-85页
第5章 Sialon纳米带的生长机理第85-96页
   ·引言第85页
   ·Sialon 纳米带的VS 生长机制第85-87页
   ·过饱和度的影响第87-89页
   ·β-Sialon 纳米带的形成过程第89-92页
   ·Sialon 纳米双晶带的形成过程第92-95页
   ·本章小结第95-96页
第6章 Sialon纳米带的性能研究第96-119页
   ·引言第96页
   ·Sialon 纳米带的红外光谱、X 射线光电子能谱及氮吸附第96-98页
   ·Sialon 纳米带的光学性能研究第98-101页
   ·Sialon 纳米带的电学性能研究第101-118页
     ·场效应晶体管(MOSFET)的基本结构和工作原理第102-105页
     ·Sialon 纳米带器件的结构第105-107页
     ·Sialon 纳米带器件的电输运性质第107-110页
     ·Sialon 纳米带器件在探测器中的应用第110-118页
   ·本章小结第118-119页
结论与展望第119-121页
参考文献第121-136页
攻读博士学位期间所发表的学术论文及专利第136-138页
致谢第138-139页
个人简历第139页

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