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PCB上镀锡工艺研究及其电化学过程探讨

摘要第1-5页
Abstract第5-6页
目录第6-9页
第一章 绪论第9-21页
   ·课题研究的背景、意义和目的第9-10页
   ·电镀锡的概述第10-16页
     ·电镀锡的发展历史第10-11页
     ·电镀锡的工艺现状第11-14页
     ·电镀锡添加剂的研究第14-15页
     ·电镀锡的沉积理论第15-16页
   ·化学镀锡的概述第16-19页
     ·化学镀锡的发展历史第16页
     ·化学镀锡的研究现状第16-18页
     ·化学镀锡的沉积理论第18-19页
     ·化学镀锡添加剂理论研究第19页
   ·镀锡工艺存在的问题第19-20页
   ·课题的主要研究内容第20-21页
第二章 实验及研究方法第21-28页
   ·实验材料及仪器第21-22页
     ·主要的实验试剂第21-22页
     ·主要的实验仪器第22页
   ·电镀锡的工艺操作第22-24页
     ·电镀实验装置第22-23页
     ·溶液配制及工艺流程第23-24页
   ·化学镀锡的工艺操作第24-25页
   ·测试与表征方法第25-28页
     ·镀液性能测试第25-26页
     ·镀层性能测试第26-27页
     ·电化学测试第27-28页
第三章 甲基磺酸电镀锡体系的研究第28-48页
   ·电镀锡溶液的组成第28-34页
     ·主盐和络合剂的配比第28-29页
     ·光亮剂的选择第29-32页
     ·表面活性剂的选择第32-33页
     ·稳定剂的选择第33-34页
   ·电镀锡工艺条件的确定第34-38页
     ·温度的确定第34-35页
     ·搅拌方式的确定第35页
     ·工作电流密度第35-37页
     ·电镀时间第37-38页
   ·镀液及镀层性能研究第38-41页
     ·镀液性能的检测第38页
     ·镀层结构的分析第38-41页
   ·添加剂的电沉积行为及作用机理研究第41-48页
     ·添加剂对阴极极化曲线的影响第41-44页
     ·添加剂对循环伏安曲线的影响第44-46页
     ·添加剂对镀层微观表面形貌的影响第46-48页
第四章 甲基磺酸化学镀锡工艺体系的研究第48-65页
   ·化学镀锡液的组成第48-53页
     ·甲基磺酸盐浓度的确定第48-49页
     ·络合剂浓度的选择第49-51页
     ·还原剂浓度的选择第51页
     ·光亮剂浓度的选择第51-52页
     ·其他添加剂的选择第52-53页
   ·化学镀锡工艺条件的确定第53-55页
     ·温度的确定第53-54页
     ·体系PH值的影响第54-55页
     ·沉积时间的影响第55页
     ·搅拌的确定第55页
   ·配方的正交试验分析第55-57页
   ·镀液及镀层性能的研究第57-58页
     ·镀液性能的检测第57页
     ·镀层结构的分析第57-58页
   ·添加剂对镀液的电沉积行为及作用机理研究第58-65页
     ·添加剂对阴极极化曲线的影响第59-60页
     ·添加剂对镀层微观表面形貌的影响第60-63页
     ·添加剂对镀层晶体结构的影响第63-65页
第五章 总结第65-67页
参考文献第67-72页
致谢第72-73页
附录 攻读硕士期间发表的论文第73页

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