摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第8页 |
引言 | 第8-21页 |
1.1 拓扑绝缘体 | 第9-13页 |
1.1.1 量子霍尔体系 | 第10-12页 |
1.1.2 Z_2拓扑绝缘体 | 第12-13页 |
1.2 拓扑半金属 | 第13-19页 |
1.2.1 狄拉克半金属 | 第13-15页 |
1.2.2 外尔半金属 | 第15-17页 |
1.2.3 节线半金属 | 第17-19页 |
1.3 其他量子拓扑材料 | 第19-20页 |
1.3.1 拓扑超导体 | 第19-20页 |
1.3.2 拓扑晶体绝缘体 | 第20页 |
1.4 本论文研究目的与内容 | 第20-21页 |
第二章 红外反射光谱原理与技术 | 第21-35页 |
2.1 红外光谱简介 | 第21-22页 |
2.2 固体的光学性质 | 第22-29页 |
2.2.1 光学常数之间的关系 | 第22-24页 |
2.2.2 Kramers-Kronig变换 | 第24-26页 |
2.2.3 Drude模型和Lorentz模型的光学响应 | 第26-29页 |
2.2.4 求和规则 | 第29页 |
2.3 红外光谱实验技术 | 第29-34页 |
2.3.1 傅里叶光谱仪及其原理 | 第29-31页 |
2.3.2 原位镀膜测量技术 | 第31-34页 |
2.4 本章小结 | 第34-35页 |
第三章 ZrSiS的晶体制备和输运研究 | 第35-47页 |
3.1 ZrSiS研究背景 | 第35-42页 |
3.1.1 ZrSiS的晶格结构 | 第35-38页 |
3.1.2 ZrSiS的电子结构 | 第38-40页 |
3.1.3 ZrSiS的拉曼光谱研究 | 第40-42页 |
3.2 ZrSiS单晶生长 | 第42-44页 |
3.3 ZrSiS的输运研究 | 第44-46页 |
3.4 本章小结 | 第46-47页 |
第四章 ZrSiS的红外光学性质 | 第47-55页 |
4.1 ZrSiS的红外光谱测量过程 | 第47-49页 |
4.2 ZrSiS红外光谱数据处理与分析 | 第49-54页 |
4.2.1 ZrSiS的红外反射率谱 | 第49-50页 |
4.2.2 ZrSiS的光电导率实部 | 第50-54页 |
4.3 本章小结 | 第54-55页 |
第五章 总结 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-61页 |
发表论文和科研情况说明 | 第61-62页 |
致谢 | 第62页 |