| 中文摘要 | 第3-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 低辐射玻璃 | 第9-17页 |
| 1.2.1 低辐射玻璃的种类 | 第9-11页 |
| 1.2.2 低辐射玻璃的生产工艺和制备方法 | 第11-14页 |
| 1.2.3 低辐射玻璃的特点 | 第14-16页 |
| 1.2.4 低辐射玻璃的节能原理 | 第16-17页 |
| 1.3 低辐射玻璃的研究现状 | 第17-20页 |
| 1.3.1 国内外研究现状 | 第17-18页 |
| 1.3.2 ZrN薄膜 | 第18-19页 |
| 1.3.3 ZrAlN薄膜 | 第19页 |
| 1.3.4 PTFE薄膜 | 第19-20页 |
| 1.4 课题研究目的和意义 | 第20页 |
| 1.5 课题研究主要内容 | 第20-22页 |
| 2 实验 | 第22-30页 |
| 2.1 实验材料与试剂 | 第22页 |
| 2.2 薄膜制备 | 第22-25页 |
| 2.2.1 薄膜制备设备 | 第22-24页 |
| 2.2.2 基片的预处理 | 第24页 |
| 2.2.3 磁控溅射镀膜 | 第24-25页 |
| 2.3 薄膜的性能表征和测试 | 第25-30页 |
| 2.3.1 薄膜的表面宏观性能分析 | 第26页 |
| 2.3.2 薄膜的光学性能测试 | 第26-27页 |
| 2.3.3 薄膜的表面微观性能测试 | 第27页 |
| 2.3.4 薄膜的其他性能测试 | 第27-30页 |
| 3 ZrAlN薄膜的制备及性能研究 | 第30-54页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 ZrAlN薄膜的制备正交实验分析 | 第30-32页 |
| 3.3 Zr靶功率对ZrAlN薄膜光学性能的影响 | 第32-35页 |
| 3.4 Al靶功率对ZrAlN薄膜光学性能的影响 | 第35-38页 |
| 3.5 氮气流量对ZrAlN薄膜的光学性能影响 | 第38-41页 |
| 3.6 溅射时间对ZrAlN薄膜光学性能的影响 | 第41-43页 |
| 3.7 ZrAlN薄膜的微观成分分析 | 第43-46页 |
| 3.8 ZrAlN薄膜的机械性能 | 第46-48页 |
| 3.9 ZrAlN薄膜的耐腐蚀性能 | 第48-50页 |
| 3.10 ZrAlN薄膜的低辐射性能 | 第50-51页 |
| 3.11 本章小结 | 第51-54页 |
| 4 ZrAlN/Ag/ZrAlN低辐射薄膜的制备及性能研究 | 第54-68页 |
| 4.1 前言 | 第54页 |
| 4.2 Ag膜的制备与性能研究 | 第54-60页 |
| 4.2.1 溅射靶材功率对Ag膜的影响 | 第55-57页 |
| 4.2.2 沉积气压对Ag膜的影响。 | 第57-59页 |
| 4.2.3 Ag膜的辐射率推算 | 第59-60页 |
| 4.3 ZrAlN/Ag/ZrAlN薄膜的制备及其可见光透光率 | 第60-63页 |
| 4.4 ZrAlN/Ag/ZrAlN薄膜的表面形貌和横截面形貌 | 第63页 |
| 4.5 ZrAlN/Ag/ZrAlN薄膜的耐腐蚀性能 | 第63-65页 |
| 4.6 ZrAlN/Ag/ZrAlN薄膜的低辐射性能 | 第65-66页 |
| 4.7 本章小结 | 第66-68页 |
| 5 PTFE及PTFE/ZrAlN/Ag/ZrAlN/glass薄膜的制备和性能研究 | 第68-80页 |
| 5.1 前言 | 第68-69页 |
| 5.2 溅射靶材功率和压强对PTFE薄膜性能的影响 | 第69-73页 |
| 5.3 PTFE薄膜的组成 | 第73-75页 |
| 5.4 PTFE/ZrAlN/Ag/ZrAlN薄膜的制备及性能 | 第75-78页 |
| 5.5 本章小结 | 第78-80页 |
| 6 结论与展望 | 第80-82页 |
| 6.1 结论 | 第80-81页 |
| 6.2 展望 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-90页 |
| 附录 | 第90页 |
| 作者在攻读学位期间取得的科研成果 | 第90页 |
