摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-25页 |
1.1 引言 | 第10-12页 |
1.2 有机-无机卤化物钙钛矿晶体 | 第12-15页 |
1.2.1 钙钛矿晶体结构 | 第12-13页 |
1.2.2 钙钛矿材料性质 | 第13页 |
1.2.3 钙钛矿太阳能电池的原理 | 第13-15页 |
1.3 有机-无机卤化物钙钛矿的成膜方法 | 第15-18页 |
1.3.1 一步溶液法 | 第16页 |
1.3.2 两步溶液法 | 第16-17页 |
1.3.3 气固法 | 第17-18页 |
1.4 不同结构的钙钛矿太阳能电池 | 第18-20页 |
1.4.1 介孔结构 | 第18-19页 |
1.4.2 平面结构 | 第19-20页 |
1.5 钙钛矿太阳能电池的稳定性 | 第20-22页 |
1.5.1 钙钛矿材料的稳定性 | 第20-21页 |
1.5.2 电池结构的稳定性 | 第21-22页 |
1.6 商业化生产的前景 | 第22-23页 |
1.7 本文研究目的及主要内容 | 第23-25页 |
第二章 氨基锂添加剂对钙钛矿太阳能电池性能的影响 | 第25-39页 |
2.1 前言 | 第25页 |
2.2 实验部分 | 第25-28页 |
2.2.1 实验药品与材料 | 第25-26页 |
2.2.2 实验仪器 | 第26-27页 |
2.2.3 器件的制备 | 第27-28页 |
2.3 实验结果与讨论 | 第28-38页 |
2.3.1 不同处理条件对PbI_2薄膜形貌的影响 | 第28-29页 |
2.3.2 掺杂LiNH_2对PbI_2薄膜的X射线衍射分析 | 第29-31页 |
2.3.3 含LiNH_2添加剂的PbI_2薄膜的热失重分析 | 第31-32页 |
2.3.4 LiNH_2掺杂对PbI_2薄膜和CH_3NH_3PbI_3薄膜形貌的影响 | 第32-33页 |
2.3.5 LiNH_2掺杂对CH_3NH_3PbI_3薄膜的X射线衍射分析 | 第33-34页 |
2.3.6 LiNH_2掺杂制备CH_3NH_3PbI_3薄膜的紫外可见吸收光谱分析 | 第34页 |
2.3.7 LiNH_2掺杂制备的CH_3NH_3PbI_3薄膜的表面光电压谱分析 | 第34-35页 |
2.3.8 LiNH_2掺杂对CH_3NH_3PbI_3薄膜的稳态和瞬态荧光光谱分析 | 第35-36页 |
2.3.9 LiNH_2掺杂对CH_3NH_3PbI_3薄膜器件的J-V特性曲线分析 | 第36-37页 |
2.3.10 不同厚度的CH_3NH_3PbI_3薄膜器件的J-V特性曲线分析 | 第37-38页 |
2.4 本章小结 | 第38-39页 |
第三章 2-氯乙胺盐酸盐添加剂对钙钛矿太阳能电池性能的影响 | 第39-53页 |
3.1 前言 | 第39-40页 |
3.2 实验部分 | 第40-41页 |
3.2.1 实验药品 | 第40页 |
3.2.2 实验仪器 | 第40页 |
3.2.3 器件的制备 | 第40-41页 |
3.3 实验结果与讨论 | 第41-52页 |
3.3.1 2-CH掺杂对PbI_2薄膜和CH_3NH_3PbI_3薄膜形貌的影响 | 第41-43页 |
3.3.2 2-CH掺杂对PbI_2薄膜的X射线衍射分析 | 第43页 |
3.3.3 2-CH掺杂制备的CH_3NH_3PbI_3薄膜的X射线衍射分析 | 第43-44页 |
3.3.4 2-CH掺杂制备的CH_3NH_3PbI_3薄膜的紫外可见吸收光谱分析 | 第44-45页 |
3.3.5 2-CH掺杂制备的CH_3NH_3PbI_3薄膜的稳态和瞬态荧光光谱分析 | 第45-46页 |
3.3.6 2-CH掺杂制备的CH_3NH_3PbI_3薄膜的C-AFM分析 | 第46-48页 |
3.3.7 2-CH掺杂对CH_3NH_3PbI_3薄膜的器件的J-V特性曲线 | 第48-49页 |
3.3.8 DH对PbI_2薄膜、CH_3NH_3PbI_3薄膜以及器件的影响 | 第49-52页 |
3.4 本章小结 | 第52-53页 |
第四章 1,6-己二胺二盐酸盐添加剂对钙钛矿太阳能电池性能的影响 | 第53-67页 |
4.1 前言 | 第53页 |
4.2 实验部分 | 第53-55页 |
4.2.1 实验药品 | 第53-54页 |
4.2.2 实验仪器 | 第54页 |
4.2.3 掺杂1,6-DD的钙钛矿薄膜及器件的制备 | 第54-55页 |
4.3 实验结果与讨论 | 第55-65页 |
4.3.1 1,6-DD掺杂对PbI_2薄膜和CH_3NH_3PbI_3薄膜形貌的影响 | 第55-56页 |
4.3.2 1,6-DD掺杂制备的PbI_2薄膜的X射线衍射分析 | 第56-57页 |
4.3.3 1,6-DD掺杂对CH_3NH_3PbI_3薄膜的X射线衍射分析 | 第57-58页 |
4.3.4 1,6-DD掺杂制备的CH_3NH_3PbI_3薄膜的紫外可见吸收光谱分析 | 第58页 |
4.3.5 1,6-DD掺杂制备的CH_3NH_3PbI_3薄膜的稳态和瞬态荧光光谱分析 | 第58-60页 |
4.3.6 1,6-DD掺杂制备的CH_3NH_3PbI_3薄膜的C-AFM分析 | 第60-61页 |
4.3.7 1,6-DD掺杂制备的CH_3NH_3PbI_3薄膜的器件的J-V特性曲线 | 第61-62页 |
4.3.8 1,4-DD对PbI_2薄膜、CH_3NH_3PbI_3薄膜以及器件的影响 | 第62-65页 |
4.4 本章小结 | 第65-67页 |
第五章 总结及展望 | 第67-69页 |
5.1 全文总结 | 第67-68页 |
5.2 工作展望 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-76页 |
发表论文和科研情况说明 | 第76-77页 |
致谢 | 第77页 |