成像光谱仪杂散光的分析、测量与校正
| 中文摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-14页 |
| 1.3 本论文研究的主要内容 | 第14-16页 |
| 第二章 杂散光基础理论分析 | 第16-26页 |
| 2.1 杂散辐射基础理论 | 第16-19页 |
| 2.1.1 散射理论 | 第16-17页 |
| 2.1.2 衍射理论 | 第17-18页 |
| 2.1.3 辐射传导理论 | 第18-19页 |
| 2.2 杂散光来源 | 第19-21页 |
| 2.3 杂散光抑制方法 | 第21-25页 |
| 2.3.1 光学方面杂散光抑制 | 第21-22页 |
| 2.3.2 机械结构方面杂散光抑制 | 第22-24页 |
| 2.3.2.1 遮光罩与挡光环 | 第22-23页 |
| 2.3.2.2 消光纹 | 第23-24页 |
| 2.3.3 表面特性 | 第24页 |
| 2.3.4 图像处理进行抑制 | 第24-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 成像光谱仪杂散光分析 | 第26-40页 |
| 3.1 杂散光分析基本思路 | 第26页 |
| 3.2 系统遮光罩设计 | 第26-30页 |
| 3.3 系统建模与杂散光计算 | 第30-39页 |
| 3.3.1 系统建模 | 第30-34页 |
| 3.3.1.1 光学系统 | 第30-32页 |
| 3.3.1.2 机械系统 | 第32-34页 |
| 3.3.2 确定系统散射路径 | 第34-35页 |
| 3.3.3 系统杂散光评价 | 第35-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 成像光谱仪杂散光测量及不确定度评定 | 第40-54页 |
| 4.1 杂散光测量方法 | 第40-43页 |
| 4.1.1 激光测量法 | 第40页 |
| 4.1.2 截止滤光片法 | 第40-41页 |
| 4.1.3 点源透过率法 | 第41-42页 |
| 4.1.4 黑斑法 | 第42页 |
| 4.1.5 陷波法 | 第42-43页 |
| 4.2 杂光系数测量实验 | 第43-46页 |
| 4.2.1 测量装置 | 第43-44页 |
| 4.2.2 测量步骤 | 第44-45页 |
| 4.2.3 测量结果 | 第45-46页 |
| 4.3 测量结果的不确定度评定 | 第46-53页 |
| 4.3.1 不确定度评定流程 | 第47-49页 |
| 4.3.1.1 测量不确定度的定义 | 第47页 |
| 4.3.1.2 标准不确定度评定 | 第47-49页 |
| 4.3.2 标准不确定度合成 | 第49页 |
| 4.3.3 扩展不确定度 | 第49-50页 |
| 4.3.4 测量不确定度评定流程 | 第50-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 成像光谱仪杂散光校正 | 第54-66页 |
| 5.1 杂散光校正矩阵 | 第54-57页 |
| 5.2 杂光矩阵构建实验 | 第57-65页 |
| 5.2.1 实验系统介绍 | 第57-59页 |
| 5.2.2 光谱杂散光校正例子：成像光谱仪 | 第59-65页 |
| 5.3 本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 6.1 总结 | 第66页 |
| 6.2 展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
