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应用于高温功率芯片封装的过渡液相连接界面反应机理研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第10-22页
    1.1 课题的来源第10页
    1.2 课题研究的背景和意义第10-12页
    1.3 国内外研究现状及分析第12-20页
        1.3.1 TLP连接技术第12-16页
        1.3.2 TLPS连接技术第16-18页
        1.3.3 冶金反应过程中的Cu-Ni交互作用第18-20页
    1.4 主要研究内容第20-22页
第2章 试验材料与方法第22-30页
    2.1 试验材料第22-23页
        2.1.1 母材第22页
        2.1.2 钎料中间层第22-23页
    2.2 试验设备及方法第23-25页
        2.2.1 试验设备及工艺参数第23页
        2.2.2 试验方法第23-25页
    2.3 分析测试方法第25-30页
        2.3.1 微观组织分析第25-26页
        2.3.2 物相表征分析第26-27页
        2.3.3 晶粒取向分析第27-28页
        2.3.4 剪切性能测试第28页
        2.3.5 断口形貌分析第28-29页
        2.3.6 纳米压痕测试第29页
        2.3.7 热重分析测试第29-30页
第3章 Ni/Sn/Cu接头TLP连接机理研究第30-46页
    3.1 引言第30页
    3.2 Ni/Sn/Cu接头TLP连接过程中界面冶金反应研究第30-35页
        3.2.1 Ni/Sn/Cu接头的微观组织演变第30-32页
        3.2.2 钎焊温度对接头界面冶金反应的影响第32-35页
    3.3 Cu-Ni-Sn三元IMC接头的晶粒组织研究第35-41页
        3.3.1 IMC相晶体结构第35页
        3.3.2 Cu-Ni-Sn三元IMC接头中晶粒的形貌演变第35-39页
        3.3.3 钎焊温度对三元IMC晶粒组织的影响第39-41页
    3.4 Cu-Ni-Sn三元IMC接头的力学性能研究第41-44页
    3.5 本章小结第44-46页
第4章 Cu/Sn-Ni/Cu接头TLP连接机理研究第46-65页
    4.1 引言第46页
    4.2 Cu/Sn-Ni/Cu接头TLP连接过程中界面冶金反应研究第46-54页
        4.2.1 Cu/Sn-Ni/Cu接头的微观组织演变第46-51页
        4.2.2 Ni颗粒含量对Cu/Sn-Ni/Cu接头界面反应影响第51-54页
    4.3 Cu-Ni-Sn三元IMC接头的晶粒组织研究第54-59页
        4.3.1 Ni颗粒含量对三元IMC晶粒组织的影响第54-56页
        4.3.2 钎焊温度对三元IMC晶粒组织的影响第56-59页
    4.4 Cu-Ni-Sn三元IMC接头的力学性能研究第59-63页
        4.4.1 Ni颗粒含量对接头力学性能的影响第59-62页
        4.4.2 焊接温度对接头力学性能的影响第62-63页
    4.5 本章小结第63-65页
结论第65-67页
参考文献第67-73页
攻读硕士学位期间发表的学术论文及其他成果第73-76页
致谢第76页

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