| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·半导体光催化反应的基本原理 | 第9-11页 |
| ·半导体光催化的影响因素 | 第11-14页 |
| ·催化剂的改性途径 | 第14-17页 |
| ·新型光催化材料的研究现状及发展 | 第17-19页 |
| ·选题依据及主要内容 | 第19-21页 |
| 第二章 可见光催化剂Bi_2WO_6的制备及光催化性能的研究 | 第21-34页 |
| ·前言 | 第21-22页 |
| ·Bi_2WO_6的合成方法 | 第22页 |
| ·主要试剂和仪器 | 第22-23页 |
| ·Bi_2WO_6的制备 | 第23页 |
| ·Bi_2WO_6样品的表征 | 第23-24页 |
| ·光催化活性测试 | 第24页 |
| ·结果与讨论 | 第24-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 γ-Bi_2MoO_6的制备及光催化性能的研究 | 第34-46页 |
| ·前言 | 第34-35页 |
| ·主要试剂和仪器 | 第35页 |
| ·Bi_2MoO_6的制备 | 第35-36页 |
| ·Bi_2MoO_6样品的表征 | 第36页 |
| ·光催化活性测试 | 第36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 硕士期间发表论文 | 第55页 |