| 摘要 | 第4-7页 |
| abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第16-30页 |
| 1.1 X70钢的应用 | 第16页 |
| 1.2 酸性介质下常用的缓蚀剂 | 第16-20页 |
| 1.2.1 无机缓蚀剂 | 第17页 |
| 1.2.2 有机缓蚀剂 | 第17-20页 |
| 1.3 酸性介质中有机缓蚀剂作用机理研究进展 | 第20-22页 |
| 1.3.1 吸附作用 | 第20-21页 |
| 1.3.2 咪唑啉类缓蚀剂的机理研究进展 | 第21-22页 |
| 1.4 有机缓蚀剂针对孔蚀影响的相关研究进展 | 第22-23页 |
| 1.5 孔蚀的研究手段 | 第23-27页 |
| 1.5.1 动电位极化法 | 第24-25页 |
| 1.5.2 交流阻抗法 | 第25-26页 |
| 1.5.3 Mott-Schottky分析 | 第26页 |
| 1.5.4 红外光谱分析 | 第26页 |
| 1.5.5 X-射线光电子能谱 | 第26-27页 |
| 1.6 论文的研究意义和主要研究内容 | 第27-30页 |
| 第二章 实验方法 | 第30-36页 |
| 2.1 实验材料 | 第30页 |
| 2.2 溶液制备 | 第30-31页 |
| 2.3 实验测试方法 | 第31-33页 |
| 2.3.1 溶液pH测量 | 第31-32页 |
| 2.3.2 动电位极化曲线测试 | 第32页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜和能谱分析 | 第32-33页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱 | 第33页 |
| 2.3.5 阻抗测试和Mott-Schottky测试 | 第33页 |
| 2.4 实验数据处理 | 第33-36页 |
| 2.4.1 稳定孔蚀电位Eb | 第33-34页 |
| 2.4.2 自腐蚀电位Ecorr和自腐蚀电流密度icorr | 第34页 |
| 2.4.3 缓蚀率η的计算 | 第34-36页 |
| 第三章 硫脲对体系中X70钢小孔腐蚀的影响 | 第36-44页 |
| 3.1 实验体系 | 第36-38页 |
| 3.2 添加不同浓度的硫脲缓蚀剂对X70钢动电位极化曲线的影响 | 第38-40页 |
| 3.2.1 添加不同浓度的硫脲缓蚀剂极化曲线中电化学参数的影响 | 第39-40页 |
| 3.3 X70钢在溶液中添加不同浓度硫脲腐蚀后的形貌观察 | 第40-41页 |
| 3.4 X70钢在硫脲中浸泡不同时间对孔蚀的影响 | 第41-42页 |
| 3.5 XPS测试 | 第42-43页 |
| 3.6. 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 硫脲基咪唑啉浓度对体系中X70钢孔蚀的影响 | 第44-56页 |
| 4.1 X70钢在不同浓度硫脲基咪唑啉中的极化曲线 | 第44-47页 |
| 4.1.1 X70钢在添加不同浓度的硫脲基咪唑啉极化曲线中电化学参数的影响 | 第45-47页 |
| 4.2 X70钢在不同浓度硫脲基咪唑啉中的阻抗测试 | 第47-48页 |
| 4.3 X70钢在不同浓度硫脲基咪唑啉中的M-S测试 | 第48-49页 |
| 4.4 X70钢在不同浓度下TAI中的形貌观察和能谱分析 | 第49-51页 |
| 4.5 XPS测试 | 第51-54页 |
| 4.6 本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 硫脲基咪唑啉浸泡时间对体系中X70钢孔蚀的影响 | 第56-72页 |
| 5.1 X70钢在体系中加入160 ppm TAI的开路电位监测 | 第56-57页 |
| 5.2 X70钢在体系中加入160 ppm TAI浸泡24h后的极化曲线 | 第57-59页 |
| 5.3 X70钢在体系中加入160 ppm TAI浸泡24h后的阻抗测试 | 第59页 |
| 5.4 SEM和EDS测试 | 第59-61页 |
| 5.5 XPS测试 | 第61-68页 |
| 5.6 硫脲基咪唑啉的pH使用范围 | 第68-70页 |
| 5.7 本章小结 | 第70-72页 |
| 第六章 总结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
| 研究成果和发表的学术论文 | 第80-82页 |
| 导师和作者简介 | 第82-84页 |
| 附件 | 第84-85页 |
