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金属钨中级联碰撞的分子动力学模拟研究

摘要第5-6页
Abstract第6页
第1章 绪论第9-15页
    1.1 研究背景第9-10页
    1.2 研究意义第10-11页
    1.3 辐照损伤简介第11-13页
    1.4 金属钨的辐照现状第13-14页
    1.5 本文研究内容第14-15页
第2章 基本方法的介绍第15-22页
    2.1 分子动力学方法第15-21页
        2.1.1 分子动力学方法的基本思想第16-17页
        2.1.2 有限差分法第17-19页
        2.1.3 系综简介第19-20页
        2.1.4 势函数第20-21页
    2.2 本章小结第21-22页
第3章 纯钨的离位级联碰撞模拟第22-31页
    3.1 模型与计算方法第22-23页
    3.2 缺陷对数目随着辐照温度和 PKA 能量的变化第23-24页
    3.3 钨的级联效率第24-26页
    3.4 纯钨的缺陷构型第26-29页
    3.5 本章小结第29-31页
第4章 间隙氦存在于金属钨中的级联碰撞模拟第31-46页
    4.1 缺陷对数目随着辐照条件变化第32-34页
    4.2 稳定状态缺陷的数目第34-36页
    4.3 氦原子存在时的级联效率第36-42页
    4.4 缺陷结构的演化及其分布第42-45页
    4.5 本章小结第45-46页
第5章 替位氦存在于金属钨中的级联碰撞模拟第46-55页
    5.1 替位氦存在时,缺陷数目随时间的变化第46-48页
    5.2 稳定状态的缺陷数目第48-51页
    5.3 缺陷结构的演化过程第51-53页
    5.4 本章小结第53-55页
结论第55-57页
参考文献第57-62页
致谢第62-63页
附录 A 攻读学位期间所发表的学术论文目录第63页

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